大氣壓介質(zhì)阻擋放電等離子體:介質(zhì)阻擋放電(DBD)是一種將介質(zhì)插入放電電極之間的氣體放電。介質(zhì)可以被電極覆蓋或懸浮在放電空間中。這樣，電鍍附著(zhù)力檢驗方法當對電極兩端施加足夠高的交流電壓時(shí)，即使在大氣壓下，電極之間的氣體也會(huì )被高壓擊穿，形成所謂的DBD放電。等離子體清洗放電與輝光放電相似，具有均勻、擴散和穩定的特點(diǎn)，實(shí)際上由許多小的快脈沖放電通道組成。

3 低氣壓等離子體發(fā)生器 一種低氣壓氣體放電裝置，電鍍附著(zhù)力的試驗標準一般由三部分組成：產(chǎn)生等離子體的電源、放電室、抽真空系統和工作氣（或反應氣）供給系統。通常有四類(lèi)：靜態(tài)放電裝置、高壓電暈放電裝置、高頻（射頻）放電裝置和微波放電裝置。。等離子體和表面的相互作用主要有以下一些基本過(guò)程。1) 吸附和解吸。在等離子體裝置中，由于放電對表面的活化作用，表面可能對氣體發(fā)生強烈的吸附。而在等離子體作用下，可能發(fā)生熱解吸、電子解吸和光解吸。

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研究低溫等離子表面處理設備與物體表面的相互作用。等離子表面處理設備的作用：除氣體、離子和電子的分子結構外，電鍍附著(zhù)力檢驗方法等離子表面處理設備還含有電中性原子。被能量激發(fā)。也有人說(shuō)，原子團（和氧自由基）的波長(cháng)和能量以及等離子體發(fā)出的光在等離子體表面起著(zhù)重要作用。原子團與物體表面的反應。由于等離子表面處理所含的氧自由基比離子多，氧自由基在等離子表面處理中起著(zhù)重要作用，氧自由基的作用主要是化學(xué)變化中的能量轉移。

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基本操作過(guò)程將待處理物放在支架或電極上，關(guān)閉反應室門(mén)；然后抽真空至背面和底部的設定真空值，并引入相應的工藝氣體，使真空度保持在20-Pa范圍內圍；接下來(lái)，啟動(dòng)電源形成等離子體與產(chǎn)品或材料進(jìn)行物理或化學(xué)反應，包括等離子體清洗、等離子體活化、等離子體刻蝕、等離子體聚合；整個(gè)反應完成后，通入壓縮空氣或氮氣，使空氣破碎，取出物體。。工作壓力對等離子體清洗效果的干擾；工作壓力是等離子體清洗的重要參數之一。

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