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并且對這些難清洗部位的清洗作用與用氟利昂清洗的作用類(lèi)似甚至更好。4·整個(gè)清洗工藝流程在幾分鐘內即可完結，無(wú)錫高附著(zhù)力聚酯鋁箔公司因而具有產(chǎn)率高的特點(diǎn)。5等離子清洗需求控制的真空度約在 Pa，這種真空度在工廠(chǎng)實(shí)踐出產(chǎn)中很簡(jiǎn)單完結。這種裝置的設備本錢(qián)不高，加上清洗過(guò)程不需運用價(jià)格較昂貴的有機溶劑，因而它的運轉本錢(qián)要低于傳統的清洗工藝。6因為不需求對清洗液進(jìn)行運輸，儲存，排放等處理措施，所以出產(chǎn)場(chǎng)地很簡(jiǎn)單保持清潔衛生。

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如微細結構電子線(xiàn)路的刻蝕、光致抗蝕膜的清洗、提高尖端部位絕緣層等各種薄膜的覆蓋能力等均可以采用等離子體清洗技術(shù)。雖然它應用到生產(chǎn)實(shí)踐中的時(shí)間還不長(cháng)，但已證明它確實(shí)具有實(shí)用性強、可靠性好、經(jīng)濟性佳及無(wú)公害性的優(yōu)點(diǎn)。。

在直流電壓的作用下，正負電暈均在尖端電極附近積聚空間電荷。在負電暈中，當電子引起碰撞電離時(shí)，它們被驅離尖端電極并形成負離子，而正離子積聚在電極表面附近。隨著(zhù)電場(chǎng)繼續增強，正離子被吸引到電極和脈沖電暈電流出現，而負離子擴散到間隙空間。然后重復電離和帶電粒子的過(guò)程。這種循環(huán)使許多電暈電流脈沖出現。電暈放電可以在大氣壓下工作，但需要足夠高的電壓來(lái)增加電暈處的電場(chǎng)。

等離子清洗機的RIE和ICP蝕刻可以更有效地控制側壁沉積物的形成，不同材料之間的蝕刻選擇性對于圖案轉移的準確性和蝕刻形狀的控制很重要。等離子清洗機通常使用鹵素氣體（主要是BR、CL、F氣體）進(jìn)行金屬蝕刻。當應用于圖案化磁存儲器時(shí)，副作用是由于殘留的非易失性蝕刻導致的金屬腐蝕問(wèn)題?？涛g磁存儲核心單元的超薄單層時(shí)，性能更顯著(zhù)。蝕刻副產(chǎn)物可被 350°C 以上的高溫激活，但相關(guān)的磁性能也顯著(zhù)降低。

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