在真空室中，半導體等離子去膠設備射頻電源在一定壓力下產(chǎn)生高能無(wú)序等離子體，通過(guò)等離子轟擊清洗產(chǎn)品表面。達到清洗的目的。等離子體處理可納入導電，半導電和非導電應用。等離子體清洗表面的有效方法是去除雜質(zhì)、污染物、殘留物和有機(機械)化合物。這個(gè)過(guò)程被稱(chēng)為微清洗或蝕刻，提供了提高附著(zhù)力的另一個(gè)重要方面。此外，等離子體表面活化(轉化)處理(快)快、有效、經(jīng)濟、環(huán)保。

儲存、排放等處理措施，半導體等離子體清潔設備使生產(chǎn)現場(chǎng)易于保持清潔衛生;等離子清洗可以不搬運物體，并可以搬運各種材料，無(wú)論是金屬。半導體、氧化物或聚丙烯等聚合物材料。聚氯乙烯。聚酰亞胺。聚酯、環(huán)氧樹(shù)脂等)。特別適用于不耐高溫、不耐溶劑的材料。同時(shí)，你可以對整體有所選擇。局部或復雜結構進(jìn)行局部清洗;四、在完成清洗去污后，可改善材料本身的表面性能。如提高表面潤濕性，提高膜的附著(zhù)力等，在許多方面都有重要的應用。五、性能穩定，性?xún)r(jià)比高。

一、等離子體處理設備的特點(diǎn)環(huán)保技術(shù):等離子體離子處理設備的作用過(guò)程為氣固共格反應，半導體等離子去膠設備不消耗水資源，不添加化學(xué)藥劑，不污染環(huán)境。適用范圍廣:可以很好地處理金屬復合材料、半導體材料、金屬氧化物和大多數高分子材料，無(wú)論被加工對象的類(lèi)型。

它不區分加工對象，半導體等離子去膠設備可以處理不同的基片，無(wú)論是金屬、半導體、氧化物還是聚合物材料都可以用等離子體很好地處理，因此，特別適用于耐高溫和耐溶劑的基片材料。等離子清洗機是一種高科技產(chǎn)品，它也被稱(chēng)為等離子表面處理設備，其主要特點(diǎn)可以達到常規清洗所不能達到的效果，同時(shí)提高了產(chǎn)品質(zhì)量，有效的解決了環(huán)保問(wèn)題。

半導體等離子去膠設備

其中，中國臺灣主板廠(chǎng)商今年紛紛加大資本支出投資擴建廠(chǎng)房和生產(chǎn)，尤其是ABF主板投資更為活躍。至于Mainland China制造商而加載板比例不高,但是因為喜歡加載板,前景是積極的輸入,負載板PCB的整體輸出中國尚未達到5%,而且主要是在MEMS等產(chǎn)品的初步階段,但在半導體行業(yè)的國家政策和修養,預計將加快中國大陸在載重板上的發(fā)展。

從各種清洗方法來(lái)看，等離子體清洗是最先進(jìn)的清洗方法。等離子清洗技術(shù)的特點(diǎn)是既可加工基材類(lèi)型的對象，可加工如金屬、半導體和氧化物等大部分高分子材料(如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚(乙氯、環(huán)氧、聚四氟乙烯)、如對原基材可以處理得很好，并可以實(shí)現整體和局部的清洗和復雜的結構。清洗的重要作用之一是提高膜的附著(zhù)力，如在硅襯里沉積Au膜較低，Ar等離子體處理表面碳氫化合物等污染，明顯提高Au的附著(zhù)力。

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半導體等離子去膠設備

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