3、 光學(xué)領(lǐng)域 a.鏡片清洗:去除有(機)薄膜; b.隱形眼鏡:提高隱形眼鏡的浸潤性; c.光纖: 改善光纖連接器的光學(xué)傳輸。 4、 橡膠 a.表面摩擦力:減少密封條和O型圈的表面摩擦力; b.粘結: 提高粘合劑對橡膠的粘結力，附著(zhù)力 聚酮 醇溶 樹(shù)脂使用等離子體中的離子加速撞擊表面或化學(xué)刻蝕來(lái)選擇性的改變表面形態(tài)，從而提供更多的結合點(diǎn)，提高粘合性。 5、 印刷電路板(PCB) a.去孔內膠渣，孔內膠渣必須在鍍金之前去除。

5、橡膠a.表面摩擦力:減少密封條和O型圈的表面摩擦力；b.粘結: 提高粘合劑對橡膠的粘結力，附著(zhù)力 摩擦力使用等離子體中的離子加速撞擊表面或化學(xué)刻蝕來(lái)選擇性的改變表面形態(tài)，從而提供更多的結合點(diǎn)，提高粘合性。6、等離子清洗機印刷電路板(PCB)應用a.去孔內膠渣，孔內膠渣必須在鍍金之前去除。

填充材料與組件之間的潤濕性通常很差，附著(zhù)力 摩擦力從而導致難以粘合并產(chǎn)生空洞。等離子體活化可以提高表面張力，保證良好的潤濕性，使樹(shù)脂在聚四氟乙烯、硅膠、聚酰亞胺等大多數低表面能高分子材料上充分流動(dòng)。等離子體活化后的產(chǎn)品能保證良好的密封性，減少電流泄漏，提高產(chǎn)品本身的性能，還能起到很好的粘接作用，還能有效降低產(chǎn)品的摩擦力。。大家都知道等離子設備應用廣泛，但如何在惡臭中使用呢？銷(xiāo)售部有個(gè)客戶(hù)打電話(huà)來(lái)問(wèn)我們一個(gè)很深的問(wèn)題。

Led封裝過(guò)程直接影響Led產(chǎn)品的收率，附著(zhù)力 摩擦力封裝過(guò)程中99%的罪魁禍首來(lái)自集成IC和基片上的顆粒污染物、金屬氧化物和環(huán)氧樹(shù)脂膠。如何去除這些污染物一直是人們關(guān)注的問(wèn)題。等離子體設備清洗作為近年來(lái)發(fā)展起來(lái)的一種清洗工藝，為這些情況提供了一種經(jīng)濟、高效、無(wú)污染的解決方案。對于這些不同的污染物，根據基材和芯片材料，不同的清洗程序可以獲得理想的效果(效果)，但錯誤的工藝可能導致產(chǎn)品報廢。

附著(zhù)力 聚酮 醇溶 樹(shù)脂

等離子體表面處理設備是利用這些活性成分的性質(zhì)對樣品表面進(jìn)行處理，從而達到清洗、改性、光刻膠的火山灰和其他目的…等離子清洗機的應用在微電子packagingIn微電子包裝的生產(chǎn)過(guò)程中,由于各種各樣的指紋,通量,交叉污染,自然氧化,設備和材料將會(huì )形成各種各樣的表面污染,包括有機物質(zhì),環(huán)氧樹(shù)脂、光阻劑和焊料、金屬鹽等。這些污漬會(huì )對包裝工藝和等離子體產(chǎn)生重大影響。

當加熱時(shí)，它會(huì )給氣體成分增加更多的能量，產(chǎn)生一種99.99%的宇宙處于等離子態(tài)的等離子體。使用化學(xué)或物理方法對工件表面進(jìn)行化學(xué)或物理處理，通常厚度為3至30nm，以實(shí)現在分子水平上去除污染物。去除的污染物包括有機物、環(huán)氧樹(shù)脂、光刻膠、氧化物、顆粒污染物等。對于不同的污染物，應采用不同的清洗工藝。根據所選工藝氣體的不同，等離子體清洗可分為化學(xué)清洗、物理清洗和物理-化學(xué)清洗。

工件被送入反應室，由真空泵抽真空，并引入氣體以取代等離子體。等離子體在工件表面發(fā)生反應，反應的揮發(fā)性副產(chǎn)物由真空泵抽出。等離子體蝕刻工藝實(shí)際上是一種反應等離子體工藝。最近的發(fā)展是在反應室內安裝擱板。這種設計很靈活，允許用戶(hù)移除擱板來(lái)配置合適的等離子刻蝕方法：反應等離子（RIE）、下游等離子（下游）、直接等離子（定向等離子）。所謂直接等離子體，也稱(chēng)為反應離子刻蝕，是直接等離子體刻蝕的一種形式。

其中，氧等離子體表面處理干法處理通常采用各種電離氣體等離子體對ITO表面進(jìn)行清洗，來(lái)去除其表面污染、改善其表面形態(tài);而濕法處理則通過(guò)不同的有機溶劑在ITO表面鍵合新的基團，以達到對其表面進(jìn)行改性的目的。

附著(zhù)力 聚酮 醇溶 樹(shù)脂

長(cháng)期以來(lái)，附著(zhù)力 聚酮 醇溶 樹(shù)脂人們一直在努力實(shí)現大氣壓下的輝光放電。1933年，德國馮·恩格爾首次報道了研究結果，使用冷卻裸電極在常壓氫氣和空氣中實(shí)現輝光放電，但很容易過(guò)渡到電弧，而且必須在低壓下點(diǎn)火，即不能沒(méi)有真空系統。1988年Kanazawa等報道了在常壓下使用氦氣獲得穩定的APGD的研究結果，并通過(guò)實(shí)驗總結出APGD產(chǎn)生的三個(gè)條件:(1)激勵源頻率應在1kHz以上;(2)需要雙介質(zhì)DBD;(3)必須使用氦氣。

1、如果出現這種報警，附著(zhù)力 聚酮 醇溶 樹(shù)脂腔體底部抽真空用的氣路電磁閥是否工作正常，電路是否開(kāi)路或短路； 6.檢查真空泵倒計時(shí)故障（機械故障）、真空泵排氣量并單擊復位按鈕進(jìn)行故障排除。關(guān)閉到位； 3.逐級檢查真空系統中的各個(gè)連接點(diǎn)，看是否有管路連接有缺陷或損壞；四。真空泵故障，需要檢查和維護真空泵； 7.氣壓計故障報警，氣壓計損壞或損壞。檢查和更換氣壓計 1. 檢查氣壓計是否損壞并檢查真空度 壓力表控制電路開(kāi)路或短路。