火焰等離子機理主要是通過(guò)等離子中化學(xué)活化顆粒的“解鎖”來(lái)實(shí)現除去物件外觀(guān)污垢的效果。根據反應機理，蘇州附著(zhù)力促進(jìn)劑作用機理等離子清洗一般包括：無(wú)機氣體被激發(fā)成等離子態(tài)；氣質(zhì)聯(lián)用成分粘附在固態(tài)外觀(guān)；被粘附基團與固態(tài)外觀(guān)分子反應生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子分析形成氣質(zhì)聯(lián)用；產(chǎn)物分子粘附于固態(tài)外觀(guān)；反應殘渣粘附于固態(tài)外觀(guān)。

在電場(chǎng)作用下，蘇州附著(zhù)力促進(jìn)劑作用機理它們碰撞形成等離子體。這些離子具有很高的活性，其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵，并在任何暴露的表面上引起化學(xué)反應。不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性質(zhì)，如氧等離子體氧化性高，可氧化光刻膠產(chǎn)生氣體，從而達到清洗效果；腐蝕氣體的等離子體具有良好的各向異性，可以滿(mǎn)足刻蝕的需要。等離子體處理會(huì )發(fā)出輝光，故稱(chēng)輝光放電處理。等離子體處理的機理主要依靠等離子體中活性粒子的“活化”來(lái)去除物體表面的污漬。

超聲波等離子體的自偏壓約為1000V，蘇州附著(zhù)力促進(jìn)劑作用機理射頻等離子處理機等離子體的自偏壓約為250V，微波等離子體的自偏壓非常低，只有幾十伏，且三種等離子體的作用機理不同。超聲波等離子體的反應是物理反應，射頻等離子處理機等離子體的反應是物理和化學(xué)反應，微波等離子體的反應是化學(xué)反應。。依據等離子體中的重粒子溫度，可以把等離子體分為兩大類(lèi)，熱等離子體和冷等離子體。

如前文所述，蘇州附著(zhù)力促進(jìn)劑作用機理HBr/O2對N型摻雜多晶硅的蝕刻率比未慘雜多晶硅高20%，極易產(chǎn)生縮脖效應，因此 HBr/O2的過(guò)蝕刻量要嚴格控制，一般以30%為宜，過(guò)少的過(guò)蝕刻量會(huì )導致多晶硅柵側壁底部長(cháng)腳(Footing)，過(guò)多的過(guò)蝕刻量會(huì )導致上部縮脖效應加劇。 等離子表面處理機過(guò)蝕刻步驟盡管采用具有針對柵氧化硅較高蝕刻選擇比的HBr/O2蝕刻工藝，仍然容易導致硅穿孔(Pitting)及硅損傷。

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接下來(lái)我們說(shuō)等離子清洗機的清洗目的，等離子清洗機是利用等離子體達到常規清洗所不能達到的效(果)，比如說(shuō)等離子體的活性組分是離子，電子和光子等組成，那么它所達到的清洗效(果)肯定和一般的超聲波清洗機之類(lèi)的清洗產(chǎn)品是不一樣的。等離子清洗機利用這些離子和光子等活性組分來(lái)處理工件的表面，而達到清洗的目的，很顯然這樣的清洗效(果)要比普通的清洗來(lái)得更加的好。

如濾光片、支架、電路板墊等，如同紅外截止濾光片的處理效果，等離子表面處理可以去除上述材料表面的有機污染物，使材料表面活化、粗糙化，改善支架與濾光片的結合性能，提高制絲可靠性和產(chǎn)品成品率。

常壓等離子體清洗機通過(guò)噴槍內轉子與定子之間的放電產(chǎn)生等離子體，再通過(guò)高速氣流將產(chǎn)生的等離子體吹出噴槍。其結構是電極由定子和轉子組成，它們之間的高電壓產(chǎn)生放電。由于等離子體非?；钴S，在空氣中會(huì )很快中和，這類(lèi)清洗設備對噴槍頭與工件之間的距離要求很高，非常適合平面清洗，因此廣泛應用于細胞表面清洗。。隨著(zhù)時(shí)代的變化和經(jīng)濟的快速發(fā)展，消費者對汽車(chē)工業(yè)的產(chǎn)品性能要求越來(lái)越高，如汽車(chē)的外觀(guān)、運行可靠性、耐久性等。

說(shuō)到等離子體輝光放電，它具有很高的電子能量和電子密度，因此可以通過(guò)激發(fā)碰撞產(chǎn)生可見(jiàn)光。下面我們來(lái)看看等離子清洗機比較常見(jiàn)的水平電極結構。真空等離子清潔器的輝光放電通常應在低壓環(huán)境中進(jìn)行。在大氣壓環(huán)境中產(chǎn)生輝光放電需要一定的外部電路條件和陰極的連續冷卻。輝光放電的特性參數如下表所示。。使用等離子清洗機的三大注意事項 用于清洗物體表面。傳統的清洗方法無(wú)法達到清洗效果。

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