因此，電暈機的功率的選擇在清洗前，可以通過(guò)仿真合理選擇所需功率，既滿(mǎn)足經(jīng)濟要求，又保證清洗效果和清洗效率。（2）等離子清洗機時(shí)間一般來(lái)說(shuō)，既要保證清洗效果，又要花費較少的時(shí)間來(lái)提高清洗效率，但花費的時(shí)間與各種參數有關(guān)。一般功率越大，清洗時(shí)間越短，但耗電量越大。功率的增加會(huì )使反應室與部件之間的溫度升高，同時(shí)還會(huì )引起許多其他問(wèn)題，如部件被損壞、腐蝕等。

只要包裝好，電暈機的注意功能參數就可以成為終端產(chǎn)品，然后投入實(shí)際使用。LED封裝技術(shù)大多是在分立設備封裝技術(shù)的基礎上發(fā)展演變而來(lái)的，但它又不同于一般的分立設備，具有很強的特殊性。它不僅完成輸出電信號、維持管芯正常工作、輸出可見(jiàn)光等功能，還具有電參數和光學(xué)參數的設計和技能要求，不能簡(jiǎn)單地為LED封裝分立設備。

蝕刻工藝在集成電路芯片封裝中，電暈機的功率參數不僅可以蝕刻外部的光刻膠，還可以蝕刻底層的氮化硅層。通過(guò)調整真空等離子體刻蝕機的某些參數，可以得到特定的氮化硅層形狀，即側壁刻蝕傾角。氮化硅(Si3N4)是目前最熱門(mén)的新材料之一，具有低密度、高硬度、高彈性模量、熱穩定性好等特點(diǎn)，在許多領(lǐng)域有著(zhù)廣泛的應用。氮化硅可以在晶圓制造中取代氧化硅。

在穩態(tài)下，電暈機的功率的選擇可以忽略軸對稱(chēng)、洛倫茲力和軸向熱傳導，在截面上氣體壓力和軸向電場(chǎng)均勻分布的條件下，等離子體發(fā)生器根據氣體性質(zhì)參數和管道的幾何形狀簡(jiǎn)化磁流體動(dòng)力學(xué)基本方程，可以計算管道內氣體的速度和溫度分布以及電弧參數。由于電弧內電流密度大，等離子體發(fā)生器中往往存在磁流體動(dòng)力學(xué)效應。當外磁場(chǎng)或自身磁場(chǎng)較強時(shí)，電弧受到洛倫茲力J&乘以；B（J是電流密度，B是磁感應強度）。

電暈機的功率參數

真空等離子體表面處理設備的消毒特性1.環(huán)保性，如醫院臨床常用的雙氧水，經(jīng)射頻電磁場(chǎng)激發(fā)后形成血漿，同時(shí)可達到殺滅（細菌）的目的，不產(chǎn)生污垢，對環(huán)境不產(chǎn)生二次污染；2.真空等離子體設備在線(xiàn)測試程序可在啟動(dòng)和殺菌過(guò)程中在線(xiàn)測試程序運行參數。

在等離子體體系中，等離子體的主要作用是活化甲烷分子形成CHx自由基，自由基的類(lèi)型和濃度由等離子體源及其能量相關(guān)參數決定；通過(guò)其表面性質(zhì)，可以調節自由基在表面的定向復合反應，為自由基復合傳遞能量。原位發(fā)射光譜可用于診斷常壓甲烷等離子體中激發(fā)活性物種。

1.表面清洗，在真空等離子體腔內，通過(guò)射頻電源在一定壓力下產(chǎn)生高能無(wú)序等離子體，用等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面，達到清洗的目的。2.表面（活性），經(jīng)過(guò)等離子體表面處理的物體，表面能增強，親水性強，提高附著(zhù)力，附著(zhù)力。3.表面刻蝕：利用反應氣體等離子體對材料表面進(jìn)行選擇性刻蝕，刻蝕后的材料轉化為氣相，用真空泵排出。處理后的材料微觀(guān)比表面積增大，具有良好的親水性。4.納米（米）涂層。

激勵源是為氣體放電提供能量的電源，可采用不同頻率；真空泵的首要作用是清除副產(chǎn)物，包括旋片機械泵或增壓泵；以及在真空室中具有放電電離的電極。反應氣體轉化為等離子體，反應氣體通常由氬氣、氧氣、氫氣、氮氣、四氯化碳等單一氣體，或兩種氣體的混合物組成。等離子體清洗的效果主要取決于許多因素，包括化學(xué)物質(zhì)的選擇、工藝參數、功率、時(shí)間、元件放置和電極結構。

電暈機的功率的選擇

利用血漿中的活性自由基對材料表面進(jìn)行肝素化或接枝抗血栓官能團，電暈機的注意功能參數增加材料表面的有效化學(xué)鍵合。材料表面改性的效果由一系列因素決定，包括材料基體的選擇、抗血栓涂層的組成以及改性材料的使用壽命等。動(dòng)物實(shí)驗結果表明：血漿表面活化改性后，肝素包被的聚氨酯導管在使用30d后未出現蛋白質(zhì)粘附；未包覆肝素的聚氨酯導管經(jīng)血漿表面改性后僅出現少量蛋白質(zhì)附著(zhù)；但未進(jìn)行等離子表面改性的液體導引管出現了嚴重的血栓。