什么是等離子清洗？
等離子清洗的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”以達到去除物體表面污漬的目的，就反應機理來(lái)看，等離子清洗通常包括以下過(guò)程：無(wú)機氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應殘留物脫離表面。典型的等離子物理清洗工藝是氬氣等離子清洗，氬氣本身是惰性氣體，等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應，而是通過(guò)離子轟擊使表面清潔。典型的等離子化學(xué)清洗工藝是氧氣等離子清洗，通過(guò)等離子體產(chǎn)生的氧自由基非?；顫?，容易與碳氫化合物發(fā)生反應，產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物，從而去除表面的污染物。
什么是等離子體？
等離子體是部分電離的氣體，是物質(zhì)常見(jiàn)的固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)以外的第四態(tài)，等離子體由電子、離子、自由基、光子以及其它中性粒子組成。由于等離子體中的電子、離子和自由基等活性粒子的存在，其本身很容易與固體表面發(fā)生反應。
等離子清洗的特點(diǎn)：
等離子清洗技術(shù)的最大特點(diǎn)是適用于各種基材類(lèi)型的清洗，對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實(shí)現整體和局部以及復雜結構的清洗。除此之外，等離子清洗還具有以下幾個(gè)特點(diǎn)：①容易采用數控技術(shù)，自動(dòng)化程度高；具有高精度的控制裝置，時(shí)間控制的精度很高；②正確的等離子清洗不會(huì )在表面產(chǎn)生損傷層，表面質(zhì)量得到保證；③由于是在真空中進(jìn)行，所以等離子體中的各種活性離子的自由程很長(cháng)，他們的穿透和滲透能力很強，可以進(jìn)行復雜結構的處理，包括夾層、細管和盲孔；④等離子體作用過(guò)程是氣—固相干式反應，不消耗水資源、無(wú)需添加化學(xué)試劑，對環(huán)境無(wú)殘留物，具有綠色環(huán)保特征。因此，采用等離子清洗技術(shù)可以克服傳統方法中的缺陷，使清洗更符合環(huán)保原則。
等離子清洗設備類(lèi)型：
等離子清洗設備，一般分為真空等離子清洗機和常壓等離子清洗機，常用的等離子清洗設備激發(fā)頻率有三種：①超聲等離子體為40kHz，②射頻等離子體為13.56MHz，③微波等離子體為2.45GHz。
等離子清洗技術(shù)主要應用于：
（1）等離子刻蝕
在等離子刻蝕過(guò)程中，通過(guò)處理氣體的作用，被刻蝕物會(huì )變成氣相。處理氣體和基體物質(zhì)被真空泵抽出，表面連續被新鮮的處理氣體覆蓋。不希望被刻蝕部分要使用材料覆蓋起來(lái)。通過(guò)等離子處理可以大大增加粘合潤濕面積提高粘合強度。
（2）印刷電路板
●去孔內膠渣●鍍銅前特氟隆表面活化●去除碳化物●功能電路板表面清洗
（3）金屬表面去油及清洗
金屬表面常常會(huì )有油脂、油污等有機物及氧化層，在進(jìn)行濺射、油漆、粘合、鍵合、焊接和沉積涂覆前，需要通過(guò)等離子處理得到完全潔凈和無(wú)氧化層的表面。
（4）塑料、玻璃和陶瓷表面活化及清洗
等離子清洗技術(shù)很適合處理膠接前的塑料、金屬、陶瓷、玻璃等材料。處理時(shí)可以在原子級使表面粗糙化，從而提供更多的表面結合位置，改善粘合效果。同時(shí)，還可以通過(guò)等離子中的活性原子改變表面，從而在基體材料表面形成很強的化學(xué)鍵，可以浸潤到縫隙中，極大地改善粘合性能，在有些應用中，結合力甚至可以提高50倍以上。
等離子清洗技術(shù)是一種新型的表面清洗技術(shù)，也是一種“綠色”的清洗技術(shù)。等離子清洗技術(shù)是利用等離子體內的高能粒子的活化作用，使得工件表面的待清洗層上的有機物、氧化物等污垢以及各種粒子發(fā)生一系列的物理化學(xué)反應，從而從清洗表面脫落或蒸發(fā)，從而達到清洗的作用。24312