二、 plasma介質(zhì)阻擋放電 plasma介質(zhì)阻擋放電（DBD）是1種含有絕緣介質(zhì)插入放電空間的不平衡的汽體放電，金華等離子消毒設備設計也將之稱(chēng)為介質(zhì)阻擋電暈放電或無(wú)聲放電。介質(zhì)阻擋放電可以在高壓和寬頻率范圍內工作，通常工作氣壓為10~10。電源頻率可以從50Hz到1MHz。電極構造的設計方式多種多樣。

等離子蝕刻系統是先進(jìn)的，金華等離子消毒設備設計例如用于封裝的介電材料、氧化物、氮化物、聚酰亞胺、硅、金屬、ILED 或 IC 器件去除、環(huán)氧樹(shù)脂去除中間層、光刻膠去除去除劑等。專(zhuān)為蝕刻應用而設計。此外，真空等離子清洗系統機箱還可用作等離子室、控制電子設備、13.56MHz 射頻發(fā)生器和自動(dòng)匹配網(wǎng)絡(luò )（僅限系統外的真空泵）的集成安全外殼。通過(guò)互鎖門(mén)或可拆卸面板提供維護通道。

密封膠條的截面形狀與安裝部位有很大關(guān)系，金華等離子清洗機供應商形狀各異，比較復雜。密封膠條按截面形狀可分為實(shí)芯形（圓形、方形、扁平形及多邊等截面形狀）、中空形及金屬橡膠復合形等類(lèi)型。對于橡膠密封條來(lái)說(shuō)，截面形狀的設計致關(guān)重要，它關(guān)系到密封、緩沖、安裝和部件使用等。

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金華等離子消毒設備設計

根據整理目的和要求，可實(shí)現紡織品的多種功能加工，大大提高產(chǎn)品附加值。目前其在紡織品中的應用主要包括以下幾類(lèi)。1.“三防”整理:紡織品傳統的“三防”整理，常常需要經(jīng)過(guò)軋、烘、焙等工序，工藝流程長(cháng)，需要耗用大量的能量；而且需要昂貴的整理劑，以及其它添加劑等。因而其加工成本高，同時(shí)整理后，往往也影響或犧牲纖維或織物本身的特性及性能。

同時(shí)，還配備了有機廢氣冷卻裝置，開(kāi)發(fā)了新的活性碳纖維吸附器的結構形式，活性炭廢氣處理技術(shù)能有效改善空氣環(huán)境，減少有機溶劑對工作人員的危害。

與采用等離子清洗相比，由于等離子的指向性不強，它能深入到物體的微小孔洞和凹陷內部，從而清潔產(chǎn)品。對于產(chǎn)品形狀有要求，很好采用等離子機清洗機進(jìn)行清洗。 過(guò)去的干法清洗往往還存在一個(gè)效率低下的問(wèn)題，如果利用plasma清洗機來(lái)進(jìn)行清洗的話(huà)，整個(gè)清洗工藝流程走下來(lái)幾分鐘即可完成。大大提(升)了生產(chǎn)效率。

等離子處理機提升材料界面張力和油漆附著(zhù)力: 選用等離子技術(shù)對工件表層進(jìn)行前處理—等離子處理機清洗和表層活性可以進(jìn)一步提高界面張力，改進(jìn)后面噴漆工藝的品質(zhì)。如果不能以細微的程度清潔污染的表層以及活性非極性的塑料，要想獲得長(cháng)期穩定附著(zhù)的無(wú)瑕疵漆面是不可能的。用于清潔和活性的方法多種多樣，而選用化學(xué)溶劑的方法是迄今為止使用較多的，但高于50%的易揮發(fā)有機物（VOC）排出全是由溶劑的使用而導致的。

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