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測得的缺陷形成率是施加到柵極氧化物的電壓的冪函數。因此，故障時(shí)間與電壓的關(guān)系為T(mén)F = B0V-n (7-12)。如果氧化層足夠薄，缺陷形成率與氧化層厚度無(wú)關(guān)，但臨界缺陷密度會(huì )導致氧化層斷裂。它強烈依賴(lài)于氧化層。層厚度。對于low-k材料TDDB，也有對應的root E模型。將不同模型的擬合曲線(xiàn)與同一組加速 TDDB 測試數據進(jìn)行比較。

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