如果我們繼續向氣體施加能量,不銹鋼油墨附著(zhù)力氣體中分子的運動(dòng)速度會(huì )進(jìn)一步加快,形成一種包括離子、自由電子、激發(fā)分子和高能分子碎片在內的新的物質(zhì)聚集態(tài),這就是所謂的物質(zhì)第四態(tài)——“等離子體狀態(tài)”.常壓等離子體表面處理機在常壓下產(chǎn)生等離子體對產(chǎn)品表面進(jìn)行處理。大氣等離子體借助等離子噴槍?zhuān)瑢⒖諝饣蚱渌に嚉怏w引入噴槍?zhuān)瑫r(shí)引入高頻高壓電流對氣體施加能量。

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它可以產(chǎn)生 H2O、CO2 和其他小而無(wú)害的物質(zhì)來(lái)凈化廢氣。長(cháng)期研究表明,不銹鋼油墨附著(zhù)力當一種化學(xué)物質(zhì)吸收能量(熱能、光子能、電離)時(shí),其化學(xué)性質(zhì)變得更加活躍,甚至會(huì )破裂。如果吸收的能量大于化學(xué)結合能,則化學(xué)鍵可能會(huì )斷裂。

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圖1為反應原理示意圖。等離子清洗的效果通常在滴水實(shí)驗中直觀(guān)地體現出來(lái)。如圖2所示,如果加強不銹鋼油墨附著(zhù)力等離子清洗前的接觸角約為56°,等離子清洗后的表面接觸角約為7°。在電子封裝中,等離子清洗通常采用物理和化學(xué)相結合的方法,以去除殘留在原材料制造、運輸、預處理、芯片焊盤(pán)和引線(xiàn)框架表面形狀上的有機污染物增加。形成氧化物。等離子清洗設備的反應室可分為三種主要類(lèi)型。電感耦合“桶”反應室、電容耦合“平行板”反應室和“平行流”反應室。

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1.1等離子清洗機運行條件:等離子清洗過(guò)程需要足夠的氣體和反應壓力,以及足夠的能量來(lái)高速沖擊被清洗物體的表面。等離子清洗反應物是揮發(fā)性的、精細結合的化合物,可以用真空泵抽出。泵的容量和速度應足夠大,以快速排出反應的副產(chǎn)物,反應所需的氣體應:它將立即補充。 2.1 如果通過(guò)的氣體中含有氧氣,反應過(guò)程中會(huì )產(chǎn)生少量臭氧。惡臭氣體實(shí)際上是臭氧。

等離子體激發(fā)頻率分為頻率為40kHz的等離子體超聲等離子體、頻率為13.56MHz的等離子體高頻等離子體和頻率為2.45GHz的等離子體微波等離子體。超聲波等離子的自偏壓在0V左右,高頻等離子的自偏壓在250V左右,微波等離子的自偏壓很低,只有幾十伏。超聲波等離子體產(chǎn)生的反應是物理反應,高頻等離子體產(chǎn)生的反應既是物理反應又是化學(xué)反應,微波等離子體產(chǎn)生的反應是化學(xué)反應。。

該電場(chǎng)的方向是將電子拉回平衡位置,以恢復plasma真空等離子清洗機等離子體的電中性。然而,由于慣性作用,電子并不會(huì )在平衡位置停止,而是沖過(guò)平衡位置并反向達到位移。這樣又會(huì )在相反方向引起電荷分離,產(chǎn)生反向回復 電場(chǎng),電子再次被拉回,并沖過(guò)平衡位置。如此反復,電子在平衡位置附近來(lái) 回做集體振蕩。由于離子質(zhì)量較大,對電場(chǎng)的變化響應很慢,可近似認為不動(dòng),仍作為均勻的正電荷背底。

等離子清洗機主要應用于電子行業(yè)的手機殼印刷、鍍膜、點(diǎn)膠等預處理,手機屏幕外觀(guān)加工;軍工航空航天電連接器表面清洗;等離子清洗機的清洗原理是在真空室中,通過(guò)射頻電源在一定壓力條件下輸送高能無(wú)序等離子體,通過(guò)等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品的外觀(guān),以達到清洗目的。

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