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在90nm以前的技術(shù)工藝中，主要使用等離子清洗設備電容耦合(Capacity Coupled Plasma,CCP)的介質(zhì)蝕刻機臺來(lái)進(jìn)行偏移側墻的蝕刻。這種設備屬于工作在高壓力下的低密度等離子體設備，蝕刻均勻性和工藝穩定性相對較差。同時(shí)由于離子的發(fā)散的方向性,側墻的側壁角度的一致性也難以控制。
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