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等離子體發(fā)生器改性具有眾多優(yōu)點(diǎn)：1.等離子體發(fā)生器在激活高能化學(xué)反應的同時(shí)，噴塑的附著(zhù)力在鐵件反應系統位于低溫；2.反應僅涉及材料的淺表面，不損壞材料基質(zhì)；3.屬干式技術(shù)，節水節能，降低成本，無(wú)污染；4.等離子體發(fā)生器反應時(shí)間短，效率高，能夠實(shí)現傳統化學(xué)反應無(wú)法實(shí)現的反應；5.等離子體發(fā)生器可處理形狀復雜的材料，表面處理均勻性好。

無(wú)機氣體被激發(fā)成等離子態(tài)，噴塑的附著(zhù)力的要求是什么氣相物質(zhì)吸附在固體表面，結合的基團與固體表面分子反應形成產(chǎn)物分子，產(chǎn)物分子分解形成氣相，反應殘留物離開(kāi)表面。。本發(fā)明是根據低溫等離子刻蝕機的凈化和機械離心的基本原理設計的。等離子刻蝕機的基本清洗原理是在真骨腔內，高頻開(kāi)關(guān)電源在相應的工作壓力下浮動(dòng)，形成高能混沌等離子體，對根據等離子體進(jìn)行刻蝕的產(chǎn)品表面進(jìn)行清洗。 .遷移以實(shí)現清潔。等離子體是凝聚態(tài)物理。

氬等離子體通過(guò)撞擊破壞有機化合物的離子鍵，噴塑的附著(zhù)力的要求是什么并去除表面污染物。當工作壓力較低時(shí)，離子的能量越高，動(dòng)能越高，沖擊越大。如果是物理反應清洗，則應在較低的工作壓力下進(jìn)行反射，實(shí)際清洗效果更強。選擇氬氣作為等離子體的清洗氣體時(shí)，氬氣(AR)等離子體的清洗原理是利用粒子的機械能進(jìn)行清洗。氬氣是一種惰性氣體，在清洗過(guò)程中不會(huì )引起產(chǎn)品與氣體之間的化學(xué)反應，避免二次污染，并能合理去除前端加工工藝留下的殘留物。

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介質(zhì)阻擋放電通常由正弦交流高壓電源驅動(dòng)。隨著(zhù)供電電壓的增加，系統中反應氣體的狀態(tài)將經(jīng)歷三個(gè)階段的變化。即逐漸從絕緣到擊穿，最后到放電。當電源電壓較低時(shí)，雖然一些氣體會(huì )有一定的電離和自由擴散，但含量過(guò)小，電流過(guò)小，使反應區內的氣體出現等離子體反應。此時(shí)，電流為零。隨著(zhù)電源電壓的增加，反應區域的電子增加，但不影響反應氣體的擊穿電壓。

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