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廣東等離子清洗設備原理
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等離子設備應力鄰近技術(shù)在半導體工藝刻蝕中的應用：應力接近技術(shù)（SPT）是近年來(lái)在先進(jìn)邏輯芯片技術(shù)中廣泛使用的一種技術(shù)。其技術(shù)原理是在柵源漏區金屬化（calyde）后，利用等離子器具的刻蝕方法去除部分或全部側壁，然后沉積應力層或雙應力層。層區域，應力接近技術(shù)可以將 NMOS 的性能提高 3%。對于 PNG 來(lái)說(shuō)，應力鄰近技術(shù)的引入使性能提升更加明顯。借助 SiGe 技術(shù)，金屬附近的應力可將性能提高 40%。
等離子表面處理機清洗技術(shù)的最大特點(diǎn)是不分處理對象的基材類(lèi)型，均可進(jìn)行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實(shí)現整體和局部以及復雜結構的清洗工作原理： 低溫等離子凈化器在外加電場(chǎng)的作用下，廢氣中的污染物質(zhì)可與高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等具有較高能量的物質(zhì)發(fā)生反應，使污染物質(zhì)在極短的時(shí)間內發(fā)生分解，使其電離、解離和激發(fā)，然后便引發(fā)了一系列復雜的物理、化學(xué)反應，使復雜大分子污染物轉變?yōu)楹?jiǎn)單小分子安全物質(zhì)，或使惡臭氣體有害物質(zhì)轉變成無(wú)味無(wú)害的氣體。
廣東等離子清洗設備原理
其工作原理是等離子清洗機以氣體為清洗介質(zhì)，廣東等離子清洗設備原理有效避免了液體清洗介質(zhì)對被清洗物體造成的二次污染。等離子清洗機與真空泵相連，在運行過(guò)程中，清洗室中的等離子輕輕地清洗被清洗物體的表面，讓?zhuān)ㄓ袡C）污染物在短時(shí)間內被徹底清洗干凈。同時(shí)，真空泵排出污染物，清潔程度達到分子水平。除了超強清潔能力外，等離子清潔劑還可以在某些條件下改變某些材料的表面特性。等離子體作用于材料表面，重組表面分子的化學(xué)鍵，形成新的表面特性。
