會(huì )出現器件、驅動(dòng)電壓高、工作效率低、壽命短等問(wèn)題。作為調查的結果,氧等離子體清潔發(fā)現ITO的等離子體被氧等離子體清潔。該處理極大地提高了空穴注入和器件穩定性。用不同輸出的等離子體處理ITO可以顯著(zhù)提高ITO的功函數并優(yōu)化器件性能。有機電致發(fā)光器件(OLED)以其自發(fā)光、高亮度、寬視角等優(yōu)點(diǎn)在顯示和照明領(lǐng)域受到青睞,具有巨大的應用潛力。

氧等離子體清潔

等離子清洗機處理金屬表面后,氧等離子體清潔表面附著(zhù)力可達62達因。在涂膠、噴涂、印刷等工藝的同時(shí)提供去靜電的效果。 2、提高金屬表面的耐腐蝕性:現有的鋼合金經(jīng)過(guò)等離子處理,提高了抗沖擊性和耐腐蝕性。由于樣品同時(shí)向四個(gè)方向注入離子,因此視野不受限制,甚至可以處理形狀復雜的樣品。為了保護航天器的金屬表面,通常使用氧等離子體清潔器在金屬表面涂上聚對二甲苯,在鋁表面涂上鋁合金。

一般來(lái)說(shuō),氧等離子體清潔設備隨著(zhù)氧等離子體凈化的變化,在PDMS與其他基材結合的過(guò)程中,PDMS基材和基材必須在氧等離子體表面改性后立即粘合。否則,PDMS 表面將很快恢復疏水性,并且粘合劑連接可能會(huì )失效。操作時(shí)間很短,一般在1到10分鐘左右。在加入PDMS基板和硅基板之前,我們先處理一下對應時(shí)間的結構圖。因此,有必要擴展確保鍵合圖案連續性的方法。氧等離子體清潔后的 PDMS 表面引入親水性-OH 基團而不是-CH 基團。

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氧等離子體清潔機器

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