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以此為基礎，pet附著(zhù)力與什么相關(guān)基于成熟的專(zhuān)有技術(shù)，公司在大氣等離子清洗機的實(shí)際生產(chǎn)中，必須具備出色的穩定性和可靠性，這與原有的自動(dòng)化生產(chǎn)設備是一致的。成熟的技術(shù)設備，根據實(shí)際生產(chǎn)的技術(shù)要求，除了現場(chǎng)布置車(chē)用動(dòng)力鋰電池表面處理生產(chǎn)線(xiàn)外，增加了保證等離子清洗效果和穩定性的相關(guān)功能。還增加了等離子表面處理機器。 , 滿(mǎn)足參數采集、數據傳輸、遠距離操作、安全環(huán)保等要求。。
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(d)原料表面層的功能僅涉及納米級的處理，長(cháng)沙pet附著(zhù)力樹(shù)脂售價(jià)(e)處理溫度低，對原料表面無(wú)損傷，常用樣品處理后能長(cháng)時(shí)間保持良好效果。根據客戶(hù)需求配置管道生產(chǎn)計劃(3)產(chǎn)品結構等離子體設備主要由高壓勵磁主機電源、等離子體發(fā)生器噴嘴和自動(dòng)控制系統組成。A、等離子設備高壓激勵主機電源:等離子的產(chǎn)生必須采用高壓激勵，常壓等離子設備采用中頻電源激勵，頻率為10-40khz。高電壓4-10kV，可根據樣品實(shí)際情況調整參數達到效果。
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在等離子體等離子體催化反應中，C2H6分子首先與高能電子碰撞生成CH3和C2H5等活性物種。
以下是超大規模集成電路制造中常用的幾種等離子蝕刻機：電容耦合等離子蝕刻機（capacitively Coupled plasma，CCP）、電感耦合等離子蝕刻機（Inductively Coupled Plasma, ICP & Transformer Coupled Plasma, ICP & Transforms）。 ）。
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溫等離子體中粒子的能量一般約為幾個(gè)至幾十電子伏特，大于聚合物材料的結合鍵能(幾個(gè)至十幾電子伏特)，完全可以破裂有機大分子的化學(xué)鍵而形成新鍵；但遠低于高能放射性射線(xiàn)，只涉及材料表面，不影響基體的性能。
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