圖3 常用的CCP源室結構在 1MHz 和 MHz 之間的頻率下，長(cháng)沙真空等離子清洗機價(jià)格自由電子可以隨著(zhù)電場(chǎng)的變化而獲得能量，而離子通常不會(huì )隨著(zhù)電場(chǎng)的變化而移動(dòng)。他們沉重的質(zhì)量。電容耦合等離子體的放電壓力通常在幾毫托到幾百毫托之間。由于電子的質(zhì)量遠小于離子的質(zhì)量，因此電子可以傳播得更遠并與氣體或墻壁發(fā)生碰撞。在電離中。更多的電子和離子。電子在壁周?chē)尫?，只留下龐大的離子，但整個(gè)腔室必須是電中性的。
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正如將固體變成氣體需要能量一樣，長(cháng)沙真空等離子清洗機品牌產(chǎn)生離子也需要能量。一定量的離子是帶電粒子和中性粒子（包括原子、離子和自由粒子）的混合物。離子導電并且可以對電磁力作出反應。隨著(zhù)溫度的升高，物質(zhì)從固態(tài)變?yōu)橐簯B(tài)，從液態(tài)變?yōu)闅鈶B(tài)。當氣體溫度升高時(shí)，氣體分子被分離成原子。隨著(zhù)溫度繼續升高，原子核周?chē)碾娮优c原子分離，形成離子（正電荷）和電子（負電荷）。這種現象稱(chēng)為“電離”。通過(guò)電離而帶有離子的氣體稱(chēng)為“等離子體”。
平行平板式的真空等離子表面處理設備的真空腔體，長(cháng)沙真空等離子清洗機價(jià)格是以一個(gè)軸對稱(chēng)的中心饋入頭接地的高頻電源去激發(fā)平行平板電極的等離子體，如下圖所示。電位以及位置和時(shí)間的關(guān)系如下圖，黃色線(xiàn)表示相位角θ=0時(shí)的電位分布，橙色線(xiàn)則對應于相位角θ=π時(shí)的電位分布情況。等離子表面處理設備所產(chǎn)生的等離子體和鞘層是真空腔體的中心面對稱(chēng)分布的。
然而，長(cháng)沙真空等離子清洗機價(jià)格即使是低于-120°C的等離子體蝕刻工藝也不能僅通過(guò)低溫工藝保證良好的各向異性蝕刻特性。各向同性現象也時(shí)有發(fā)生。因此，側壁保護在減少橫向蝕刻方面起著(zhù)重要作用。真正的各向異性蝕刻只有在添加側壁保護層產(chǎn)生氣態(tài)氧后才能實(shí)現。還，在許多低溫等離子蝕刻工藝中，等離子表面處理機的離子影響是決定性因素。這主要是因為降低反應溫度可以有效減緩表面的化學(xué)反應。
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等離子清洗機清洗影響速度的情況有：所處理的材料不一致，工藝不一致，驗收標準不一致，噴頭等離子體與材料的距離不一致，等離子體的功率和進(jìn)氣壓力都會(huì )影響等離子體的速度。一般問(wèn)生產(chǎn)線(xiàn)上速度會(huì )有多快滿(mǎn)足生產(chǎn)要求，我們不能給出準確的答案，具體的得看實(shí)際需求。
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