綜上所述40KHz中頻等離子清洗機的作用主要為物理撞擊反應，附著(zhù)力促進(jìn)劑kh-560其撞擊力度大，對被清洗表面影響最大；13.56MHz射頻等離子清洗機主要為物理加化學(xué)反應（需要采用氧氣、氫氣、氬氣等氣體，如采用單獨氬氣則為單獨物理反應），其撞擊力度適中，可以去除零件表面殘留的灰塵、一般氧化層等雜質(zhì)。。等離子清洗機的工作原理是通過(guò)將注入氣體激發(fā)成等離子體，等離子體由電子、離子、自由基、光子以及其他中性粒子組成。

真空等離子清洗機的三個(gè)關(guān)鍵部件是控制模塊、真空腔和真空泵?？刂颇Ｊ桨ㄊ謩?dòng)、自動(dòng)、計算機控制和 LCD 觸摸屏操作?？刂颇Ｊ椒譃閮刹糠郑洪_(kāi)關(guān)電源的控制模式和自動(dòng)化控制系統的控制模式。電源由40KHz、13.56MHz和2.45GHz等幾種工作頻率組成。自動(dòng)控制系統由按鈕（手動(dòng)、自動(dòng)）、電腦控制、PLC控制（液晶觸摸屏控制器）等方式組成。結構如下：錯誤的。

而控制單元又分為兩個(gè)大的部分：1）電源部分：主要電源頻率有三種，附著(zhù)力促進(jìn)劑kh-560分別是40KHz、13.56MHz、2.45GHz，其中13.56MHz是需要電源匹配器的。2）系統控制單元：分三種，按鈕控制（半自動(dòng)、全自動(dòng)）、電腦控制、PLC控制(液晶觸摸屏控制)。 2.真空腔體真空腔體主要是分為兩種材質(zhì)的：1）不銹鋼真空腔體。2）石英腔體。 3.真空泵真空泵分為兩種： 1）干泵。 2）油泵。

等離子體發(fā)生器技術(shù)應用及基本原理: 等離子體發(fā)生器是干式清潔設備，附著(zhù)力促進(jìn)劑kh-560增強材質(zhì)的附著(zhù)性、粘結性和徹底清除有機化學(xué)污染物質(zhì)借助等離子體清洗設備加工處理過(guò)后表面張力增強、增強粘臺度，附著(zhù)性﹔等離子體發(fā)生器表層蝕刻工藝指材質(zhì)表層借助反映的氣體，等離子體被可選擇性地蝕刻工藝，被蝕刻工藝的材質(zhì)轉換為氣相并被真空泵排出去，加工處理后的材質(zhì)微觀(guān)表面積不斷增加并具優(yōu)良潤濕性，材質(zhì)表層鍍層、清潔、蝕刻、活化1臺等離子體發(fā)生器簡(jiǎn)單完成。

附著(zhù)力促進(jìn)劑kh-560

陽(yáng)離子傾向于向帶負電的表面加速。在這種情況下，物體表面會(huì )獲得相當大的動(dòng)能。這足以去除粘附在表面上的顆粒物。紫外線(xiàn)由于離子和化學(xué)反應對物體表面的影響而被稱(chēng)為濺射現象，它具有很強的光能，可能會(huì )破壞粘附在物體表面的物質(zhì)的分子鍵。此外，它具有高滲透性，可以穿透物體表面達幾微米的深度。從上面我們可以看出：等離子清洗利用各種高能物質(zhì)和等離子的活化作用，徹底清除附著(zhù)在物體表面的污垢。。

單單就材料處理的效果來(lái)看，前者不會(huì )對基材造成傷害，經(jīng)PTH工序后，其一致性較好，報廢率也較低，效果也就更好，使用等離子清洗機進(jìn)行處理，也能有效杜絕出現沉銅后黑孔，消除孔銅和內層銅高溫斷裂爆孔等現象、提高阻焊油墨與絲印字符的附著(zhù)力，有效防止阻焊油墨及印刷字符脫落；后者可控性較差，容易對基材造成傷害，PTH的一致性并不理想，報廢率也相對較高。

等離子體處理、可靠的涂層附著(zhù)力和等離子體清潔器預處理技術(shù)的典型應用包括汽車(chē)和航空工業(yè)、電子和家電制造業(yè)、日用品制造業(yè)和包裝工業(yè)。預處理可確保金屬材料如鋁、塑料材料如PP或EPDM或其他材料上的表面涂層牢固粘附。。

電離時(shí)放出的臭氧有強氧化性，附著(zhù)的雜質(zhì)被氧化而除去，使鍍鋁基材薄膜的表面自由能提高，達到提高鍍鋁層附著(zhù)牢度的目的。鍍鋁基材薄膜預處理的目的：增加鍍鋁層的附著(zhù)力，增加鍍鋁層的阻隔效(果)（例如阻隔氣體，光線(xiàn)），改進(jìn)鍍鋁層的均勻性。在等離子體預處理過(guò)程中，基材薄膜表面被清潔（例如沾附的水）和活(化)，亦即基材薄膜表面被化學(xué)改性，使鋁金屬原子附著(zhù)得更加牢固。

kh-58附著(zhù)力

等離子表面處理機采用在線(xiàn)一體式，附著(zhù)力促進(jìn)劑kh-560等離子表面處理機的噴涂裝置旨在對電纜表面進(jìn)行預處理，等離子預處理后的電纜表面具有足夠的表面張力，可以獲得完整的表面張力不改變絕緣材料的特性。附著(zhù)力。噴墨線(xiàn)讓印刷油墨牢固地粘附在絕緣材料的表面，以獲得理想的印刷和噴墨效果。。目前廣泛使用的工藝主要是等離子表面處理機的清洗工藝，對嵌入式孔結構非常有效，工藝簡(jiǎn)單，環(huán)保。等離子表面處理設備具有優(yōu)良的清洗效果。

在電子回旋共振等離子體和直流等離子體模式下，kh-58附著(zhù)力中性粒子束由正離子電荷轉移形成，中和效率不高（約60%），粒子束能量高（>eV）。這種低中和、低通量、高能量的粒子束由于其低蝕刻速率和蝕刻選擇性比而不太適合蝕刻工藝。在體加平行碳板法中，中性粒子束通過(guò)負離子分離電子。在等離子脈沖技術(shù)的斷電階段，大量的負離子產(chǎn)生并通過(guò)。通過(guò)平行碳板分離電子形成一束中性粒子。與陽(yáng)離子相比，陰離子在通過(guò)平行碳板時(shí)更容易被中和。