這種情況下的等離子處理有以下效果： 1.1 表面有機層的灰化——表面受到化學(xué)沖擊（下面是氧氣）——污染物在真空和臨時(shí)高溫條件下部分蒸發(fā)——高能離子中的污染物被沖擊粉碎真空進(jìn)行——紫外線(xiàn)輻射破壞污染物污染層不應太厚，對PE附著(zhù)力好UV樹(shù)脂因為真空工藝只能滲透到每秒幾納米的厚度。指紋也可以。 1.2 氧化物 金屬氧化物的去除與工藝氣體發(fā)生化學(xué)反應（下圖）。該過(guò)程使用氫氣或氫氣和氬氣的混合物。也可以使用兩步處理過(guò)程。

不同的污染物需要選擇不同的清洗工藝。等離子清洗根據選用的工藝氣體不同，對pe附著(zhù)力最好的樹(shù)脂可分為化學(xué)清洗、物理清洗和物理化學(xué)清洗。。等離子確實(shí)會(huì )產(chǎn)生輻射，科學(xué)制造的真空等離子處理設備在放電時(shí)由電腦操作是不成問(wèn)題的。此外，等離子體產(chǎn)生的輻射非常小，您可以搜索文章并查看它們。關(guān)鍵詞輻射防護，等離子體。輻射不大。等離子機運行時(shí)，您不必一直站在一邊。處理對象時(shí)，會(huì )自動(dòng)顯示提示。

在這個(gè)裝置中，對PE附著(zhù)力好UV樹(shù)脂兩個(gè)電極被放置在一個(gè)封閉的容器內以形成一個(gè)電場(chǎng)，一個(gè)真空泵提供真空。隨著(zhù)氣體越來(lái)越稀薄，分子結構與分子結構或離子自由運動(dòng)的距離越來(lái)越大。它們在電場(chǎng)的作用下與等離子體碰撞形成等離子體。它的活性非常高，能量轉換足以破壞幾乎所有的離子鍵，并且在暴露的表面上會(huì )發(fā)生化學(xué)反應。在真空下，等離子體對工件表面進(jìn)行化學(xué)或物理處理，以去除分子結構水平（通常為 3 至 30 納米厚）。

(C)在等離子反應室下方，對pe附著(zhù)力最好的樹(shù)脂通過(guò)改進(jìn)等離子清洗系統，更換連接材料的平臺，關(guān)閉真空室并進(jìn)行抽氣。當高臺移動(dòng)到清掃位置時(shí)，低臺移動(dòng)到第二層收料的接收位置。高臺清洗完成后，低臺換位，低臺等離子清洗，高臺返回接收位置。 (D) 換料平臺上的物料由供料系統輸送到裝卸傳動(dòng)系統，通過(guò)壓輥和皮帶返回料箱，完成該過(guò)程。推動(dòng)機制推動(dòng)下一層材料并進(jìn)入下一個(gè)過(guò)程。

對PE附著(zhù)力好UV樹(shù)脂

根據其旋轉噴嘴的尺寸，加工寬度可為20mm、50mm、60mm、80mm等。液晶等離子清洗機采用低溫等離子弧放電技術(shù)，效率高，清洗處理迅速。有多種噴嘴可供選擇，包括:N2、H2、CDA（空氣）等，無(wú)需預熱，可隨時(shí)開(kāi)啟?？稍诰€(xiàn)或離線(xiàn)運行，運行成本低，無(wú)污染，無(wú)靜電殘留，無(wú)電弧，體積小，安裝維護方便。

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