等離子體是物質(zhì)的狀態(tài)，玻璃附著(zhù)力好的原因是也稱(chēng)為物質(zhì)的第四狀態(tài)。對氣體施加足夠的能量以將其分離成等離子體。等離子體活性成分包括離子、電子、活性基團、激發(fā)核素（亞穩態(tài)）、光子等。等離子清潔劑使用這種類(lèi)型的活性成分來(lái)處理或過(guò)度清潔樣品表面。大氣壓等離子清洗機提供不同類(lèi)型的噴嘴，用于不同的產(chǎn)品和加工環(huán)境的不同情況。小型化設備體積小，便于攜帶和移動(dòng)，節省空間?？梢灾苯邮褂?。連接現場(chǎng)設備生產(chǎn)，降低投入成本。使用壽命長(cháng)，維護成本低。

等離子清洗機有三種類(lèi)型的激發(fā)頻率。激發(fā)頻率為 40 kHz 的等離子體是超聲波等離子體，玻璃附著(zhù)力好的原因是激發(fā)頻率為 13.56 MHz 的等離子體是無(wú)線(xiàn)的。頻率等離子體，2.45GHz等離子體是微波等離子體。超聲波等離子的自偏壓在0V左右，高頻等離子的自偏壓在250V左右，微波等離子的自偏壓很低，只有幾十伏，3.等離子體的作用機制不同。

資料來(lái)源：半導體產(chǎn)業(yè)觀(guān)察，玻璃附著(zhù)力促進(jìn)劑的種類(lèi)聚恒。COM如有侵權請聯(lián)系管理員，我們將在24小時(shí)內刪除。在晶圓光刻膠去除的實(shí)際應用中，基本都是采用電感耦合真空低壓等離子清洗機，這種類(lèi)型的等離子清洗機似乎已經(jīng)逐漸成為半導體行業(yè)的專(zhuān)屬。那么這類(lèi)等離子體清洗設備的結構與普通等離子體處理設備有何不同呢？等離子體清洗機的感應放電等離子體是通過(guò)向一個(gè)非諧振線(xiàn)圈施加射頻功率而產(chǎn)生的。

A、原子團等自由基與物體表面的反應B、由于這些自由基呈電中性，玻璃附著(zhù)力好的原因是存在壽命較長(cháng)，而且在等離子體中的數量多于離子，因此自由基在等離子體中發(fā)揮著(zhù)重要的作用。

玻璃附著(zhù)力促進(jìn)劑的種類(lèi)

即TG=TI=TG==10^6-8K(10^2-4EV)：熱溫度低溫等離子體中的等離子體粒子相近，即TG=TI=TE， 5000 K > TI & ASYMP; = TG ，其他粒子的溫度為 K

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2. 取決于等離子體的狀態(tài)： (1) 平衡等離子體：具有高氣壓且電子溫度和氣體溫度大致相等的等離子體。常壓下的電弧放電等離子體和高頻感應等離子體。 (2)非平衡等離子體：在低壓或常壓下，電子溫度遠高于氣體溫度。低壓直流輝光放電、高頻誘導輝光放電、大氣壓下DBD介質(zhì)阻擋放電產(chǎn)生的冷等離子體等。。

等離子體中的電子的方向性低于離子也就是說(shuō)，電子入射角分布大于離子入射角分布，容易用光刻膠屏蔽，陽(yáng)離子聚集在蝕刻前端，在器件中形成正電位。 (4) 反向電子遮蔽效應。 ESE 發(fā)生在圖案緊密的區域，例如小于 0.5 μm 的圖案間隔。相反，在圖案的開(kāi)放區域，例如，當圖案間距超過(guò) 2 μm 時(shí)，由于電子的各向同性性質(zhì)。

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