等離子清洗機的工作原理是在真空的條件下,剝離強度與附著(zhù)力壓力越來(lái)越小,分子結構距離越來(lái)越大,分子結構之間的作用力越來(lái)越小,氧氣、氬氣、氫氣被射頻電源產(chǎn)生的高壓交變電場(chǎng)沖擊成高活性或高能離子,再與有機化學(xué)污染物、顆粒污染物反應或撞擊產(chǎn)生揮發(fā)性物質(zhì),再通過(guò)工作氣流和真空泵將揮發(fā)性物質(zhì)去除,從而達到清潔活化表層的目的。是清洗對策中最完整的剝離清洗。
在真空室中,剝離強度與附著(zhù)力的關(guān)系用高頻電源在恒壓下產(chǎn)生高能等離子體后,用等離子體照射工件表面,發(fā)揮微觀(guān)表面剝離作用(剝離深度可調節)。調整等離子體沖擊時(shí)間,等離子體的作用是納米級的,不會(huì )損傷被處理物體,達到操作的目的。真空等離子表面處理裝置的結構:真空離子清洗機:1??刂茊卧嚎刂茊卧饕譃樗姆N模式:半自動(dòng)控制、全自動(dòng)控制、PC電腦控制、液晶觸摸屏控制(包括以下)。國外進(jìn)口產(chǎn)品) ● 控制裝置主要有兩種。
等離子處理器廣泛應用于等離子清洗、等離子蝕刻、等離子晶片分層、等離子涂層、等離子灰化、等離子活化和等離子表面處理。等離子清洗機用于去除晶圓表面的顆粒,剝離強度與附著(zhù)力徹底去除光刻膠等有機物,活化和粗糙化晶圓表面,提高晶圓表面的潤濕性。等離子清洗機的應用包括預處理。 , 灰化/光刻膠/聚合物剝離、晶圓凸塊、靜電去除、介質(zhì)蝕刻、有機污染去除、晶圓減壓等。
從目前各類(lèi)清洗方法來(lái)看, 可能等離子體清洗也是所有清洗方法中最為徹底的剝離式的清洗。就反應機理來(lái)看, 等離子體清洗通常包括以下過(guò)程:a.無(wú)機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);b.氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;c.被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子;d.產(chǎn)物分子解析形成氣相;e.反應殘余物脫離表面。
剝離強度與附著(zhù)力
等離子清洗機,徹底的剝離式清洗 等離子清洗機不需化學(xué)試劑,無(wú)廢液;等離子清洗可處理金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料; 等離子清洗設備可實(shí)現整體和局部以及復雜結構的精細清洗;等離子體清洗機的處理工藝易控制,可重復,便于自動(dòng)化。
在平行于電極的等離子體反應室中,被蝕刻電極所放置的面積較小,在這種情況下,等離子體與電極之間會(huì )形成一個(gè)直流電偏置,而正反應氣體離子則會(huì )加速撞擊被蝕刻材料的表面,離子轟擊能極大地加速表面化學(xué)反應,使反應產(chǎn)物剝離,正是離子轟擊的存在導致了各向異性腐蝕。等離子體刻蝕技術(shù)蝕刻有很多種類(lèi)別,純物理蝕刻、純化學(xué)蝕刻等等。蝕刻可分為濕蝕刻和干蝕刻。
在等離子體反應體系中通入少量氧氣,在強電場(chǎng)的作用下,等離子體中產(chǎn)生氧氣,光刻膠迅速氧化成易揮發(fā)的氣體狀態(tài)。這種清洗技術(shù)具有操作方便、效率高、外觀(guān)干凈、無(wú)劃痕等優(yōu)點(diǎn),在脫膠過(guò)程中,使用酸、堿和有機溶劑,對??保證產(chǎn)品質(zhì)量很有幫助。因為你不需要它。 ,更多的人關(guān)注它。。等離子清洗機在半導體晶圓清洗工藝中的應用隨著(zhù)半導體技術(shù)的不斷發(fā)展,對工藝技術(shù),尤其是對半導體晶圓表面質(zhì)量的要求越來(lái)越高。
電漿清洗過(guò)程不需化學(xué)試劑,因此不會(huì )造成二次污染,清洗設備可重復性強,因此設備運行成本較低,且操作靈活簡(jiǎn)單,能夠實(shí)現金屬表面整體或某些局部和復雜結構的清洗;一些經(jīng)過(guò)等離子體清洗后的表面性能還可以得到改善,有利于隨后金屬的加工應用。
剝離強度與附著(zhù)力的關(guān)系
半導體行業(yè)應用真空等離子機技術(shù)已經(jīng)被很多工業(yè)產(chǎn)品生產(chǎn)廠(chǎng)家所熟知,剝離強度與附著(zhù)力相信在電子行業(yè)也將會(huì )大受歡迎和推崇,這就是真空等離子機的運用,目前國內已經(jīng)有很多半導體廠(chǎng)家在使用這項技術(shù)來(lái)處理材料,接下來(lái)就講解下它在半導體上的應用都解決哪三大工藝難題。
電源和等離子體密度不高,剝離強度與附著(zhù)力的關(guān)系但功率大,能量高,大功率幾十千瓦。真空等離子清洗機放電 射頻清洗機的溫度與正常室溫相同,但當然,即使您整天使用真空等離子清洗機,也需要在冷卻系統中加水。等離子射流的平均溫度在 200 到 250 攝氏度之間。如果距離和速度設置正確,表面溫度可以達到70-80°C。