我知道的是：表面激光合金化、噴丸、滲碳、氮化、鍍膜，氮化硅的親水性其實(shí)你要說(shuō)得更詳細一些，比如金屬表面處理使金屬強化方法或者耐腐蝕性增強等等，因為金屬表面處理的方法很多，有的涉及物理變化，有的涉及化學(xué)變化，它們的金屬表面處理目的是不一樣的。如果用單指等離子表面處理器處理，如果是各種塑料，一般可以保持40小時(shí)左右，效果比較理想。特定的塑料制品需要特定的差異；如果是金屬，可以保存40多個(gè)小時(shí)，但效果會(huì )越來(lái)越弱。。

因此，氮化硅的親水性如果發(fā)現等離子體表面墊圈的側壁蝕刻的主蝕刻步驟的終點(diǎn)監測被暴露，則立即停止蝕刻并切換過(guò)蝕刻步驟。主刻蝕步驟中殘留的氮化硅膜通過(guò)過(guò)刻蝕步驟被刻蝕去除，同時(shí)停止在氧化硅膜上，以防止損壞下面的硅襯底。過(guò)蝕刻步驟通常使用 CH3F 或 CH2F2 和 O2 氣體的組合。 CH3F 氣體分解為 CHx 和 F. + H。等離子體中的撞擊離子會(huì )破壞 Si-O 鍵。

由于氮化硅的流動(dòng)性不如氧化物，氮化硅的親水性蝕刻難度較大。等離子體表面處理機可以解決蝕刻的困難。等離子體蝕刻是通過(guò)化學(xué)或物理作用，或物理和化學(xué)作用的結合來(lái)進(jìn)行的。在反應過(guò)程中,通過(guò)反應室中的氣體輝光放電,從而形成含離子等離子體,電子、自由基等活性物質(zhì),這些物質(zhì)由于其擴散特征,將吸附介質(zhì)的表面,與介質(zhì)的表面原子的化學(xué)反應,揮發(fā)物。

2021年GaN技術(shù)的發(fā)展趨勢是什么？對此，氮化硅的親水性GaN系統做出了四個(gè)預測： ■ 預測一：充電器和適配器領(lǐng)域回顧2020年，今年是氮化鎵充電器之年。在售后市場(chǎng)方面，有用于手機、平板電腦和手持游戲設備的各種充電器和適配器。隨著(zhù)多端口適配器的興起，到 2021 年，OEM 將越來(lái)越多地采用 GaN 充電器。

氮化硅的親水性

這些低壓等離子體充滿(mǎn)了整個(gè)處理空間，含有大量的活性原子并提高了氮化效率。在射頻低溫等離子發(fā)生器滲氮中，低溫等離子發(fā)生器的產(chǎn)生和襯底偏壓是分開(kāi)控制的，因此離子能量轉換和到襯底表面的通量可以分開(kāi)控制。由于工作氣壓相對較低，耗氣量會(huì )相應減少（減少）。在自由基氮化過(guò)程中，低能量變換直流輝光放電產(chǎn)生可用于氮化的NH自由基。整個(gè)過(guò)程需要外部電源來(lái)加熱工件。這是一種氣體氮化工藝。

基礎設施的效率已經(jīng)成為許多組織關(guān)注的焦點(diǎn)。雖然2020年將是氮化鎵電源設計工作顯著(zhù)增加的一年，但我們預計2021年將側重于在數據中心實(shí)際實(shí)施氮化鎵。到2021年，數據中心運營(yíng)商將需要提高其物理數據中心基礎設施的功率密度。使用GaN技術(shù)的更小的電源允許在相同的機架空間中添加更多的存儲和內存，增加數據中心的容量，而無(wú)需實(shí)際建設更多的數據中心。

之前已經(jīng)簡(jiǎn)單的給大家提到了提高PET無(wú)塵布的吸水性能等離子表面改性處理，那么等離子清洗機的作用方式和提高PET無(wú)塵布吸水性能的效果是什么呢?繼續閱讀!PET無(wú)塵布和其他PET材料在表面改性前一般都是疏水的。為了便于觀(guān)察，我們使用微型注射器將不同大小的藍色透明試劑注入PET無(wú)塵布中。如下圖所示，試劑試劑分散在PET無(wú)塵布上，不易攤開(kāi)，說(shuō)明無(wú)塵布吸水性差。

7、加工對象的形狀沒(méi)有限制。它可以處理大小，簡(jiǎn)單或復雜，零件或紡織品，一切。。等離子清洗機等離子處理對高吸水性樹(shù)脂耐鹽性的影響：高吸水性樹(shù)脂是近十年發(fā)展起來(lái)的一種新型功能性高分子材料，具有吸濕、儲水的特性。它吸收和保留相當于自身質(zhì)量數百到數千倍的水。目前，高吸水性樹(shù)脂主要關(guān)注不同單體的聚合過(guò)程和對去離子水的吸收能力，但通常吸水性樹(shù)脂中吸鹽量為去離子水的吸鹽量，小于液體的10%，是有抵抗力的。

氮化硅的親水性

以PP裝飾膜為基材，氮化硅的親水性采用低溫plasma表面清洗對PP裝飾膜表面進(jìn)行改性，然后對其表面進(jìn)行水性涂料涂料，plasma改性處理對PP裝飾膜是1種非極性高聚物，分子鏈中沒(méi)有極性基團，表面低，結晶度高，化學(xué)穩定性好。在制備過(guò)程中需要添加一些添加劑，不利于油墨和涂料在其表面的附著(zhù)。因此，在實(shí)際生產(chǎn)中，需要對其低溫等離子表面清洗進(jìn)行改性。

常壓等離子體清洗機的技術(shù)優(yōu)勢；1.處理溫度低2.運營(yíng)成本低3.治療過(guò)程中不需要額外的輔助物品和條件4.處理全過(guò)程無(wú)污染5.治療效果穩定6.加工效率高，氮化硅的親水性可實(shí)現全自動(dòng)在線(xiàn)生產(chǎn)有關(guān)等離子清洗機的更多信息，請關(guān)注：。隨著(zhù)科學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展，低溫等離子體清洗技能逐漸廣泛應用于工業(yè)活動(dòng)中。等離子體清洗設備分為真空等離子體清洗機和常壓等離子體清洗機。