還有許多難以去除的氧化物可以用氫氣 (H2) 清洗。但是，玻璃上碰什么附著(zhù)力比較強只有在真空條件下具有出色的密封性能才能使用。還有許多獨特的蒸氣，例如（CF4）和（SF6）。蝕刻去除有機物的（效果）更加顯著(zhù)。但使用該類(lèi)氣體的前提是具有較強的耐腐蝕氣路和中空結構，并佩戴防護套和手套。第六種常見(jiàn)氣體是氮氣 (N2)。此類(lèi)氣體主要用于在線(xiàn)等離子體（活化）活化和材料表面改性。當然，它也可以在真空環(huán)境中使用。

另外，附著(zhù)力比較好的油漆高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質(zhì)俘獲，成為負離子。這類(lèi)負離子具有很好的化學(xué)活性，在化學(xué)反應中起著(zhù)重要的作用。

等離子體的活性和非活性氣體根據產(chǎn)生等離子體所用氣體的化學(xué)性質(zhì)不同，玻璃上碰什么附著(zhù)力比較強可分為非活性氣體等離子體和活性氣體等離子體。惰性氣體如氬氣(Ar)、氮氣(N2)、氟化氮(NF3)、四氟化氮(CF4)、活性氣體和氧氣(O2)、氫氣(H2)等。不同類(lèi)型的氣體在清洗過(guò)程中有不同的反應機理，活性氣體等離子體具有較強的化學(xué)反應活性。

整個(gè)清洗過(guò)程可以在幾分鐘內完成，玻璃上碰什么附著(zhù)力比較強因此具有收率高的特點(diǎn);六、等離子體清洗需要控制真空度Pa左右，這種清洗條件容易實(shí)現。

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由此產(chǎn)生的等離子體密度可以達到1017-1018m^3，電子溫度2-4eV，直徑30cm。由于很容易在寬壓力范圍（1 至 40 Pa）內獲得大直徑、高密度的等離子體，近年來(lái)，ICP在半導體等離子處理技術(shù)中得到廣泛應用。由c=λν可知，13.56MHz的電磁波波長(cháng)為22m，比天線(xiàn)的長(cháng)度還長(cháng)，所以位移電流可以忽略不計，采用準靜態(tài)法處理心臟的磁場(chǎng)。

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目的是去除特定物質(zhì)并修飾材料表面。。等離子清洗機（PLASMA CLEANER）也稱(chēng)等離子清洗機等離子清洗機（PLASMA CLEANER）也稱(chēng)等離子清洗機或等離子表面處理機，是一種利用等離子實(shí)現常規清洗方式的高新技術(shù)。達不到效果。等離子體是物質(zhì)的狀態(tài)，也稱(chēng)為物質(zhì)的第四狀態(tài)，不屬于一般固液氣體的三種狀態(tài)。等離子清洗機的優(yōu)點(diǎn) 1、等離子清洗后的待清洗物體干燥，無(wú)需進(jìn)一步干燥即可送至下道工序。

帶電粒子的這一性質(zhì)和動(dòng)能在磁力作用下不發(fā)生變化，因此帶電粒子受到特定形式的非均勻磁場(chǎng)的束縛。例如，地球磁場(chǎng)捕獲帶電粒子以形成地球輻射帶（范艾倫帶）。用于熱核聚變的受控磁鏡裝置也利用這一特性來(lái)限制等離子體。。等離子波形非常復雜。既有橫波（波矢k垂直于電場(chǎng)E）和縱波（k平行于E），又有非橫波和非縱波之分。有橢圓偏振波、圓偏振波和線(xiàn)偏振波。波的相速度可以大于、等于或小于光的真空速度c。

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