近幾十年來(lái)人們在荷葉，微納結構的親水性情況水黽腿，蝴蝶翅膀等自然界中超疏水性組織和器官的啟發(fā)下，研究了各種各樣的超疏水納米涂層材料，超疏水納米涂層材料的設計和研發(fā)的目標不僅在于模仿生物的功能結構，更主要的是制備組分和結構均可調的超疏水表面。超疏水納米涂層材料具有特殊微納米結構，因此有疏水自清潔性，防污染等一系列優(yōu)異性能，同時(shí)在強度、耐熱、耐酸堿等性能方面又十分優(yōu)異的新材料。
3、運行簡(jiǎn)單、安全。4、設計簡(jiǎn)潔、美觀(guān)。5、產(chǎn)品性?xún)r(jià)比高。微波等離子體去膠機是半導體行業(yè)必不可少的設備，微納結構的親水性情況從事微納加工工藝研究，主要用于半導體及其他薄膜加工工藝過(guò)程中，各種光刻膠的干燥去除、基片清洗、電子元件的開(kāi)封等。研究方向：等離子體表面改性，有機物質(zhì)表面等離子清潔，等離子體蝕刻，等離子體灰化，增強或減弱浸潤性等。
等離子清洗過(guò)程涉及許多影響顆粒并直接影響去除效果的復雜物理過(guò)程，微納結構親水性如等離子的產(chǎn)生和沉積能量的積累。直徑為10～2納米的顆粒分布在硅襯底表面，除極小的納米顆粒外，大部分顆粒在等離子體的作用下被去除。等離子沖擊波對去除微納米顆粒的影響非常明顯。直徑大于 0.5 μm 的顆粒被完全去除，但小于該尺寸的顆?；救コ嗽紨盗康?50% 左右。
在集成電路或MEMS微納米加工前道工序中，微納結構的親水性情況晶圓表面會(huì )涂上光刻膠，然后光刻，顯影，但光刻膠只是圖形轉化的媒介，當光刻后在光刻膠上形成微納米圖形后，需要進(jìn)行下一步的生長(cháng)或刻蝕的工藝，之后需要用某種方法把光刻膠去除。等離子清洗機又稱(chēng)等離子體去膠機可實(shí)現此功能。
微納結構的親水性情況
等離子清洗機特別用于半導體封裝和組裝、等離子處理解決方案 (ASPA)、晶圓級封裝 (WLP) 和微機械 (MEMS) 組件。等離子清潔劑活化處理的應用包括改進(jìn)清潔、引線(xiàn)鍵合、除渣、集結、活化和蝕刻。。在集成電路和MEMS微納加工之前的制程中，晶圓表面涂有光刻膠，然后進(jìn)行光刻顯影，但光刻膠只是圖形轉換的介質(zhì)。光刻之后，在光刻膠上形成微納圖案后，必須進(jìn)行下一步的生長(cháng)或刻蝕，然后以某種方式去除光刻膠。
等離子清洗器活化處理應用包括改進(jìn)的清洗、鉛鍵合、除渣、團塊粘合、活化和蝕刻。。在集成電路或MEMS微納加工的前工序中，晶圓表面會(huì )涂覆光刻膠，然后進(jìn)行光刻和顯影。然而，光刻膠只是圖案轉換的介質(zhì)。光刻后的光刻膠上形成微納圖案后，需要進(jìn)行下一步的生長(cháng)或蝕刻工藝，然后通過(guò)某種方法去除光刻膠。等離子清洗機，又稱(chēng)等離子除膠機，可以實(shí)現這一功能。等離子體清潔器利用射頻或微波產(chǎn)生等離子體，同時(shí)引入氧氣或其他氣體。
處理時(shí)間越長(cháng)，與水的接觸角越小[13-15]，對CF4、CH2F2等含氟單體進(jìn)行等離子體處理可以使高分子材料表面氟化，增加其疏水性[15]。 HSIEH 等人。 [16]發(fā)現未經(jīng)處理的PET薄膜與水的接觸角為73.1°，AR等離子體處理5分鐘。測量一天后，與水的接觸角下降到33.7°，并且隨著(zhù)儲存時(shí)間的延長(cháng)接觸角緩慢增加，說(shuō)明治療效果隨時(shí)間下降。放置10D后，接觸角增加到41.3°。
環(huán)保水性涂料工藝是許多企業(yè)涂裝過(guò)程中生產(chǎn)的核心環(huán)節。大氣等離子表面清洗設備的應用，為水性涂裝提供了可能。 大氣等離子表面清洗設備的預處理還可以去除表面的油污和灰塵，增強材料的表面勢能。
微納結構親水性
2.等離子清洗對蓬松紡織品能帶來(lái)顯著(zhù)的加工效果等離子體清洗機產(chǎn)生的等離子體會(huì )對紡織材料表面產(chǎn)生衰變、交換、熱聚合、聚合物等多種行為。此外，微納結構親水性在紡織商品貨物操作程序中，等離子體中的化學(xué)分子、分子結構和正離子滲入紡織材料表面，可以使紡織材料表面的高分子化合物解鏈并帶來(lái)物理化學(xué)反應，從而保證表面離子注入和鈍化處理，從而提高紡織材料之間的吸水性、柔韌性、附著(zhù)力和滑動(dòng)摩擦。
等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運動(dòng)狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團（自由基）；離子化的原子、分子；未反應的分子、原子等，微納結構的親水性情況但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。在真空腔體里，通過(guò)射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無(wú)序的等離子體，通過(guò)等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面．以達到清洗目的。真空等離子清洗的優(yōu)勢 :等離子清洗作為重要的材料表面改性方法，已經(jīng)在眾多領(lǐng)域廣泛使用。
