大氣常壓直接等離子清洗與遠程等離子清洗常壓大氣直接等離子清洗(directplasma)與遠程等離子清洗(remoteplasma)最大的差別在于前者電極構造設計成電場(chǎng)外漏，等離子體放電時(shí)，解離反應可以延續至噴頭外，甚至把試片作為電極的一部分，因此直接型等離子體的等離子效率較高，但由于電場(chǎng)外漏，極容易對導電試片造成電弧擊傷或靜電擊傷問(wèn)題，因此直接型等離子清洗無(wú)法使用在會(huì )導電的試片上；另外應用在導電的試片處理時(shí)也要注意因電場(chǎng)外漏產(chǎn)生的電弧及絲狀放電對等離子處理時(shí)的均勻性多少也會(huì )造成影響。遠程等離子清洗機則是經(jīng)由適當的電極設計，等離子體產(chǎn)生后再由出口送達試片表面，由于等離子體被隔離，因此沒(méi)有靜電擊傷的問(wèn)題，但等離子體也相對較弱，尤其是remoteDBD在使用空氣作為工作氣體時(shí)，效果遠遠不及使用N2remoteDBD等離子體。
遠程等離子體清洗技術(shù)在實(shí)際應用的過(guò)程中，工藝非常簡(jiǎn)單，同時(shí)操作方便，處理的效率非常高，且無(wú)需廢液、廢氣處理，對環(huán)境無(wú)污染，可以極大地節約能源，降低成本。大氣常壓直接等離子清洗與遠程等離子清洗00224400