腔體側壁條件、宏觀(guān)蝕刻不均勻、蝕刻和聚合物沉積、微蝕刻不均勻、垂直和橫向蝕刻、圖案側壁保護、臨界尺寸、側面翹曲、等離子等離子輸出受改變等離子特性的影響的清潔工。調整關(guān)鍵的等離子體特性，pp底材附著(zhù)力增進(jìn)劑通過(guò)調整等離子體內部和晶圓表面發(fā)生的化學(xué)和物理反應過(guò)程來(lái)優(yōu)化蝕刻結果。
力增進(jìn)劑（聚酯樹(shù)脂對pp底材附著(zhù)力）.jpg)
等離子潔凈作用與密度和電子溫度有關(guān)，聚酯樹(shù)脂對pp底材附著(zhù)力如密度越大清洗速率越快，電子溫度越高，潔凈作用越好。所以，低壓等離子潔凈工序的選擇是非常重要的。(2)汽體類(lèi)型：被加工目標的板材及其表層污物具備多樣化，而不同汽體釋放電能引起的等離子潔凈速率和潔凈作用則相差很大。所以應有針對性地選擇等離子工作汽體，例如，氧等離子表層的油污污垢，采用氫氬混合氣plasma清洗機來(lái)去除氧化層。
電流的大小是由相對應的兩個(gè)下行線(xiàn)路電阻R1和R2的電源負載特性曲線(xiàn)和放電特性曲線(xiàn)的交點(diǎn)(操作分A、B和C) .Dark當前areaUnder電場(chǎng)加速的狀態(tài),電子獲得足夠的能量,通過(guò)與中性分子碰撞，聚酯樹(shù)脂對pp底材附著(zhù)力新生成的電子數量迅速增加。電流增加到10-7 ~ 10-5安培小時(shí)，在陽(yáng)極附近出現一層很薄的發(fā)光層。
等離子清洗后的材料表面無(wú)油污，聚酯樹(shù)脂對pp底材附著(zhù)力無(wú)需再加工，提高了整個(gè)工藝的加工效率。操作員可以避免有害溶劑的損壞。因此，它被完全（完全）洗滌。清潔物品不需要過(guò)多考慮形狀，也可以處理多種材料。特別適用于不耐高溫且不含溶劑的材料。因此，等離子清洗技術(shù)受到了極大的關(guān)注。等離子清洗機應用于印刷包裝、汽車(chē)制造、生物醫藥、精密電子設備等行業(yè)，包括醫療器械領(lǐng)域。
聚酯樹(shù)脂對pp底材附著(zhù)力
其中又數片拋光片應用較廣，用量也較大，其它半導體硅片產(chǎn)品也都是以?huà)伖馄瑸榛A進(jìn)行二次加工而成。為了提高生產(chǎn)效率和降低成本，大尺寸硅片將成為未來(lái)的發(fā)展趨勢，而且硅片尺寸的增加，將使單片硅片的芯片數量增加；同時(shí)，在圓形硅片上制作矩形形狀的硅片，將不可避免地使硅片邊緣的某些區域不能被利用，當晶圓尺寸增大時(shí)，損耗比就會(huì )減少；這樣，單片硅片的生產(chǎn)成本就會(huì )降低。
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