1-2. 芯片等離子清洗工藝及效果 1. 功率：300W 2. 氣體：氧氣/氬氣/氫氣。 3.處理時(shí)間：120S（時(shí)間可再次優(yōu)化） 4.治療前接觸角達到80度，附著(zhù)力和表面達因治療后達到20度； 5、治療前達因值：32達因↓，治療后達因40↑；PS：射頻功率200W~600W，氣壓 MT~120MT或140，使用AR 等離子體并將樣品放在接地板上。

處理這些部件可能會(huì )在皮膚上留下油脂、環(huán)境污染表面，附著(zhù)力和表面達因并對數據處理產(chǎn)生不利影響?？赡馨l(fā)生的第二個(gè)陷阱是在進(jìn)行下一個(gè)過(guò)程之前等待很長(cháng)時(shí)間。所有數據對處理的響應不同，并且具有不同的處理衰減因子。在處理數小時(shí)或數天后，處理過(guò)的表面失去一些達因峰值水平的情況并不少見(jiàn)。在達因測試的同時(shí)，有些材料在很長(cháng)一段時(shí)間內都保持正常水平，但如果材料長(cháng)期不進(jìn)行處理，它會(huì )慢慢恢復，并且表面可能會(huì )被灰塵和氧化物污染。開(kāi)箱后的材料。

首先介紹了達因特離子清洗機的結構，附著(zhù)力和行阻力是什么意思主要由電子元件、運行控制、電源、源處理、安全保護等兩部分組成。其次，等離子體處理裝置，它由激發(fā)電極，激發(fā)氣路等組成。 等離子清洗機釋放出用在這類(lèi)物質(zhì)表面上的一些化學(xué)鍵，使其形成小分子的產(chǎn)物或被氧化成金屬，等等，這些產(chǎn)物通過(guò)抽氣過(guò)程被抽走，使材料表面變得凹凸不平，粗糙度增加。

但當充入多種氣體時(shí)，附著(zhù)力和表面達因需要考慮的因素就更多了，比如選擇的氫氣純度越高，產(chǎn)生的氫離子就越多，相應的氧化物清洗速度就越快，雖然提高了反應效率，但不可忽視的是氫氣作為易燃易爆氣體，具有很高的危險性。因此，在考慮充填混合氣體時(shí)，通常將氫氣與氬氣等其他氣體充填，氫氣比例應處于相對安全的位置，才能使效率最大化。對不同物質(zhì)的清洗，需要探索更好的方法和工藝，不斷提高清洗效果。。壓縮氣體是現代工業(yè)不可缺少的一部分。

附著(zhù)力和行阻力是什么意思

等離子設備中的分子一般由幾個(gè)原子組成，由于這些原子相互作用，分子能級比原子能級復雜，而且氣體分子的激發(fā)和電離也不同于氣體原子的激發(fā)和電離。除了電子能量，分子的內能還包括振動(dòng)能和轉動(dòng)能，這些能量也是分離的，能量級圖非常復雜。

若在真空泵排氣口看到白色煙氣，可能是泵內排出的油霧，與離子表面處理機本身無(wú)關(guān)；此問(wèn)題可通過(guò)更換適當的油霧過(guò)濾器來(lái)解決。 實(shí)際處理過(guò)程復雜多變，非專(zhuān)業(yè)人員請勿輕易操作，更多等離子設備詳細信息解決方案歡迎來(lái)電咨詢(xún)。。

如果您對等離子表面清洗設備還有其他問(wèn)題，歡迎隨時(shí)聯(lián)系我們（廣東金萊科技有限公司）

CF4和O2輸入等離子體機真空腔后，在等離子體發(fā)生器的高頻高壓電場(chǎng)作用下，CF4和O2氣體解離或相互作用，產(chǎn)生含有自由基、原子、分子和電子的等離子體氣體氣氛：O2+CF2&RARR；O+OF+CO+COF+F+E+等離子體中的自由基和正離子與孔壁上的高分子有機物質(zhì)(C、H、O、N)發(fā)生反應。

附著(zhù)力和行阻力是什么意思