可以得出在電漿清洗機等離子體應用下，山東射頻等離子清洗機催化劑可實(shí)現表面反應參與了甲烷的C-H鍵斷裂過(guò)程。對CH4活化而言：鑭系催化劑與 電漿清洗機等離子體的共同應用活化CH能力存在差異，其共同應用能力大小順序如下：Nd203/Y-Al203>CeO2/Y-Al203>Sm203/Y-Al203>Pr2O11/Y-Al203>La2O3/Y-Al2O3。

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等離子表面清洗處理機在硅片、芯片行業(yè)中的應用：硅片、芯片和高性能半導體是靈敏性極高的電子元件，等離子清洗機技術(shù)作為一種制造工藝也隨著(zhù)這些技術(shù)的發(fā)展而發(fā)展。等離子體技術(shù)在大氣環(huán)境中的開(kāi)發(fā)為等離子清洗處理提供了全新的應用前景，特別是在全自動(dòng)生產(chǎn)方面發(fā)揮了重要作用。

在具體的診斷過(guò)程中，探針相對于地的偏置電壓為VB,而此時(shí)等離子體跟地相對的電位為φp。當探針電壓Vb=φp時(shí)，探針處于跟等離子體一致的電位，此時(shí)它收集到的電流主要來(lái)自易動(dòng)的電子。當增加Vb并使其超過(guò)φp時(shí)，電流將趨于飽和而達到電子飽和電流值，但電流也會(huì )因探針有效收集面積的增加而隨電壓增加，這跟探針的幾何形狀有一定關(guān)系。

對原膜、等離子體改性膜樣品在PAN超濾膜進(jìn)行通量測試可以發(fā)現，與原膜相比通量顯著(zhù)增加，超濾膜表面親水性明顯改善，蛋白質(zhì)分子不易在膜表面附著(zhù)，抗污染性能和滲透性能也進(jìn)一步提高。等離子體改性雖然改變了膜表面結構，但刻蝕作用并不明顯，改性后膜孔徑減小，對大于膜孔徑的蛋白質(zhì)分子有很好的截留效果。

低溫等離子表面處理設備（點(diǎn)擊了解詳情）的電離率較低，電子溫度遠高于離子溫度，離子溫度甚至可與室溫相當。所以低溫等離子表面處理設備是非熱平衡等離子體，低溫等離子表面處理設備中存在著(zhù)大量的、種類(lèi)繁多的活性粒子，比通常的化學(xué)反映所產(chǎn)生的活性粒子種類(lèi)更多、活性更強，更易于和所接觸的材料表面發(fā)生反映，因此它們被用來(lái)對材料表面進(jìn)行等離子表面處理設備改性處理。

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