介質(zhì)阻檔放電可以在常溫常壓中穩定進(jìn)行，光引發(fā)劑與附著(zhù)力產(chǎn)生連續的等離子源，且放電設備造價(jià)合理，因此確保了其在工業(yè)化應用時(shí)的成本和連續性；其次，介質(zhì)阻檔放電能夠通過(guò)反應性氣體（如氧氣）產(chǎn)生能夠活(化)復合材料表面的粒子，可以確保表面能夠提高足夠的膠接強度。

等離子表面處理的優(yōu)點(diǎn)與設備原理真空等離子清洗機是氣體分子在真空、放電等特殊場(chǎng)合下產(chǎn)生的物質(zhì)，光引發(fā)劑與附著(zhù)力等離子清洗/刻蝕產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個(gè)電極形成電磁場(chǎng)，用真空泵實(shí)現一定的真空度，隨著(zhù)氣體越來(lái)越稀薄，分子間距及分子或郭的自由運動(dòng)距離也越來(lái)越長(cháng)，受磁場(chǎng)作用，發(fā)生碰撞而形成等離子體，同時(shí)會(huì )發(fā)生輝光，等離子體在電磁場(chǎng)內空間運動(dòng)，并轟擊被處理物體表面，達到去除表面油污以及表面氧化物，灰化表面有機物，以及其它化學(xué)物質(zhì)，從而達到表面處理、清洗和刻蝕效果，經(jīng)過(guò)等離子處理工藝可以實(shí)現有選擇的表面改性。

但是，光引發(fā)劑與附著(zhù)力這種方法在產(chǎn)生粉塵污染環(huán)境的同時(shí)，不容易達到提高制件表面粗糙度均勻的目的，容易導致復合材料制件表面產(chǎn)生變形破壞，從而影響制件粘接面的性能。所以可以考慮采用。一種可控制、可控制的等離子清洗設備技術(shù)，在改善材料表面的物化性能的同時(shí)，有效、精確地清除污染物，從而獲得較好的粘接性能。。

等離子體處理設備的清洗范圍是納米有機和無(wú)機污染物。低壓氣光等離子體主要用于等離子體發(fā)生器的加工和應用。一些非聚合物無(wú)機氣體(ar.n2.h2。O2等)在高頻和低壓的刺激下產(chǎn)生各種活性粒子，光引發(fā)劑與附著(zhù)力如離子、激發(fā)態(tài)分子和自由基。等離子體發(fā)生器加工可分為兩類(lèi):一類(lèi)是稀有氣體等離子體(如Ar.N2等);另一類(lèi)是活性氣體等離子體(如O2、H2等)。這些活性粒子可以與表面物質(zhì)發(fā)生反應，刺激狀態(tài)分子清潔活化表面。

光引發(fā)劑加多附著(zhù)力不好嗎

射頻等離子體(激發(fā)頻率13.56MHz)涉及物理響應類(lèi)型和化學(xué)響應類(lèi)型。(2)工作氣體類(lèi)型對等離子體清洗類(lèi)型也有一定的影響。例如，惰性氣體如Ar2、N2激發(fā)的等離子體主要用于物理清洗，通過(guò)脫殼效應使數據表面清潔?；钚詺怏wO2、H2等興奮等離子體主要用于化學(xué)清洗,與活性自由基和污染物(主要是碳氫化合物)化學(xué)反應,一氧化碳,二氧化碳,水和其他小分子,從表面數據。(3)等離子體清洗的類(lèi)型對清洗效果有一定的影響。

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