對于 NiO / Y-對于A(yíng)l2O3，外延片plasma清潔設備CO2轉化率高，除了系統中C和O的結合，CO2的產(chǎn)率高。當CHx自由基吸附在其表面時(shí)形成CO2的催化劑這也是一個(gè)更重要的原因。在相同的實(shí)驗條件下，研究了 NiO 負載對兩種烴和 CO 產(chǎn)率的影響。隨著(zhù) NiO 負載量的增加，C2 烴的產(chǎn)率降低，CO 的產(chǎn)率增加。

這個(gè)過(guò)程，外延片plasma清潔設備例如將一個(gè)氮分子分裂成兩個(gè)氮原子，稱(chēng)為氣體分子分離。當溫度再次升高時(shí)，原子中的電子從原子中剝離成帶正電的原子核和帶電電子。這是一個(gè)稱(chēng)為原子電離的過(guò)程。發(fā)生電離過(guò)程并形成等離子體。等離子體：等離子體，也稱(chēng)為等離子體，是一個(gè)原子和一組被剝奪電子的原子的一部分。宏觀(guān)電中性電離氣體是電離后產(chǎn)生的正負離子的電離氣態(tài)物質(zhì)，德拜長(cháng)度較長(cháng)，主要靠電磁力運動(dòng)，表現出顯著(zhù)的集體行為。

此外，外延片plasma清潔設備極性基團的增加和活性物質(zhì)的暴露也增加了材料表面載流子的數量，從而提高了材料的表面導電性。未經(jīng)低溫等離子體表面處理的兩層薄膜只是簡(jiǎn)單的物理疊加，層間PI分子很難形成交聯(lián)或交聯(lián)，因此不可能形成電荷轉移通道。這會(huì )將肖特基或場(chǎng)發(fā)射注入薄膜。內部電子傾向于在一層薄膜中積累，使其難以到達第二層。此外，層間界面的低導電性惡化。電荷積累會(huì )導致電場(chǎng)畸變，進(jìn)而對薄膜造成絕緣損壞。

當向氣體施加足夠的能量以使其電離時(shí)，外延片plasma清潔設備它就會(huì )變成等離子體狀態(tài)。等離子體的“活性”成分包括離子、電子、反應基團、激發(fā)核素（亞穩態(tài)）、光子等。等離子清潔劑利用這些活性成分的特性對樣品表面進(jìn)行處理，以達到清潔等目的。 & EMSP; & EMSP; 等離子體是一種物質(zhì)狀態(tài)，與固體、液體和氣體一樣，也稱(chēng)為物質(zhì)的第四態(tài)。當向氣體施加足夠的能量以使其電離時(shí)，它就會(huì )變成等離子體狀態(tài)。

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此時(shí)，真空泵正在排出真空室內的空氣（此時(shí)等離子清洗機處于關(guān)閉狀態(tài)）。 C。大約 5 分鐘后，等離子室會(huì )慢慢發(fā)光。 A. 排空真空室中的空氣 A. 將樣品放入真空室； B.關(guān)閉三通閥（箭頭向下）；C.保持洗衣機門(mén)靠近真空室； D.打開(kāi)真空泵電源開(kāi)關(guān)，稍等片刻排出機艙空氣，關(guān)閉洗衣機門(mén)。 B、排氣 A、打開(kāi)三通閥接觸室內空氣（杠桿指的是針閥的針閥）。 B.輕輕打開(kāi)針閥，讓空氣進(jìn)入清洗機房。 （必須先關(guān)閉針閥）。

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