1、薄膜折疊紙箱粘接牢度高,薄膜等離子體刻蝕機可采用環(huán)保水性膠粘劑,減少膠水使用量,有效降低生產(chǎn)成本。2、在正常工藝設置下,表面不會(huì )發(fā)現任何加工痕跡。等離子體接近正常溫度,對表面沒(méi)有任何熱效應。當需要處理雙面或多面塑料盒時(shí),可在系統中配置不同數量的噴槍來(lái)完成預處理工作。4、等離子體本身是電中性的,在處理鍍鋁表面時(shí)不會(huì )灼傷表面。5、產(chǎn)品可連續運行具有效率高、加工速度快、粘接可靠、成本低等優(yōu)點(diǎn)。
在其它裝飾膜上,薄膜等離子表面處理機器我們也常運用另一特性的光、干擾。如藍色、紫色,都涉及這方面的特征。當氧氣量達到一定程度時(shí),薄膜的顏色會(huì )隨著(zhù)薄膜厚度的變化而變化。
但是等離子清洗機使用后,薄膜等離子體刻蝕機這些問(wèn)題就不再是問(wèn)題了等分清洗機:不破壞包裝盒表面可以增強粘接,而且工作時(shí)不會(huì )產(chǎn)生紙滴,工作場(chǎng)所更容易清潔也不會(huì )影響工作效率,重要的是幫助企業(yè)節省昂貴的膠水成本。購買(mǎi)等離子清洗機的成本只是膠水成本的一小部分。等離子體表面處理技術(shù)適用于各種包裝材料,甚至某些復合包裝材料中的薄膜的預處理。
等離子體沉積薄膜等離子體沉積薄膜可以保護電子元件,薄膜等離子體刻蝕機等離子體沉積導電薄膜可以保護電子電路和設備免受靜電積聚造成的損壞,等離子體沉積薄膜也可以制造電容元件。它在電子工業(yè)、化工、光學(xué)等領(lǐng)域有著(zhù)廣泛的應用。硅化合物的等離子體沉積。SiOxHy由SiH4+N2O[或Si(OC2H4)+O2]合成。壓力1 ~ 5torr (1 torr 133pa),電源13.5 MHZ。SiH4+SiH3+N2用于氮化硅沉積。
薄膜等離子體刻蝕機
低溫等離子體表面處理技術(shù)在等離子滲鋁膜上的應用:作為一種新型的表面處理技術(shù),低溫等離子體表面處理技術(shù)具有獨特的優(yōu)勢。低溫等離子體技術(shù)采用氣體反應,整個(gè)過(guò)程無(wú)需液體,反應迅速。具有高效、節能、環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)。低溫等離子體技術(shù)應用廣泛,從制造微電子工業(yè)中的集成電路到處理聚合物薄膜和有毒廢物。
等離子清洗機可以在表面形成胺基、羰基、羥基、羧基等官能團并提高界面附著(zhù)力。醫用導管、輸液袋、透析過(guò)濾器等部件,以及醫用注射針、塑料薄膜袋、裝血藥袋等附著(zhù),都得益于血漿清洗機表面的肌理活治療過(guò)程。。加工對象如果沒(méi)有等離子清洗技術(shù),必然會(huì )影響產(chǎn)品質(zhì)量:等離子狀態(tài)被稱(chēng)為第四狀態(tài)??梢圆捎貌煌那逑垂に嚭筒煌墓に嚉怏w對不同的材料進(jìn)行等離子體表面活化清洗處理。
如果您對等離子表面清洗設備有更多的疑問(wèn),歡迎咨詢(xún)我們(廣東金來(lái)科技有限公司)
在等離子體浸漬和正離子注入的早期階段,N2等離子體主要用于金屬表面的清潔。與金屬表面的耐蝕性類(lèi)似,金屬表面的硬度和耐磨性也在金屬表面形成,形成更硬更耐磨的材料層,從而提高硬度和耐磨性。就金屬復合材料而言,一些異型零件不可避免地需要清洗。低溫等離子清洗機表面工藝具有良好的擴散性和非定向性,清洗速度和均勻性也很好。因此,也適用于各種規格異型件的批量生產(chǎn)加工。。
薄膜等離子體刻蝕機
等離子體表面處理廣泛應用于金屬、微電子、聚合物、生物功能材料、低溫殺菌和污染控制等領(lǐng)域。與傳統方法相比,薄膜等離子體刻蝕機等離子體表面處理具有成本低、無(wú)浪費、無(wú)污染等明顯優(yōu)勢,能夠取得傳統化學(xué)方法難以達到的處理效果。是一家致力于等離子技術(shù)發(fā)展的高新技術(shù)企業(yè),為各行業(yè)提供專(zhuān)業(yè)、高效、節能、環(huán)保的等離子處理解決方案。
普通聚丙烯內飾涂裝前采用火焰燃燒預處理。由于火焰溫度高,薄膜等離子體刻蝕機容易造成變色變形,效率低,存在安全隱患。然而,等離子體表面處理技術(shù)的出現改變了這一現狀。聚丙烯內件涂布前的等離子表面處理設備工藝優(yōu)勢:1。處理后的形狀、材質(zhì)、尺寸不受限制,使物料表面得到均勻的清洗和活化。2、等離子體表面處理技術(shù)可靠,產(chǎn)品一致性好,零件不會(huì )發(fā)生熱變形或降解。3、本產(chǎn)品為干洗,不含任何殘留物質(zhì),可降低內部部件VOC含量。
等離子體刻蝕機原理,等離子體刻蝕原理,等離子體刻蝕設備,等離子體刻蝕技術(shù),微波等離子體刻蝕,高密度等離子體刻蝕,等離子體干法刻蝕,等離子體刻蝕各向異性等離子體刻蝕機原理,等離子體刻蝕原理,等離子體刻蝕設備,等離子體刻蝕技術(shù),微波等離子體刻蝕,高密度等離子體刻蝕,等離子體干法刻蝕,等離子體刻蝕各向異性