要完成這些基本功能，高附著(zhù)力樹(shù)脂如何選擇除了對自放電方式和電極材料結構的規定外，加工工藝中混合氣體的選擇也非常關(guān)鍵，尤其是刻蝕的基本功能。

在ICP方向上，高附著(zhù)力的墨盒有什么區別學(xué)院派提出了類(lèi)似的思路，即在同步脈沖的基礎上，在上電極（負極）或下電極（正極）上加直流。由于等離子體清洗機ICP的源射頻與偏置射頻之間的耦合可以忽略，這種直流脈沖的引入可以實(shí)現不同材料間高選擇性刻蝕的精確控制，達到ALE刻蝕邊界，遠優(yōu)于傳統的基于氣體脈沖的刻蝕ALE蝕刻4步法（吸附、排空、反應、排空）。

活化處理工藝，高附著(zhù)力的墨盒有什么區別常壓等離子體清洗機就是為此而誕生的。常壓等離子清洗機，無(wú)論是配合三軸平臺、輸送機，還是安裝在整條流水線(xiàn)上，都能快速激活被處理材料的一個(gè)表面。而真空等離子體設備是以其高性能，特點(diǎn)是質(zhì)量高、品質(zhì)優(yōu)、產(chǎn)品安全，處理效果精準全面，而且很多產(chǎn)品本身存在材料問(wèn)題，無(wú)法使用像常壓等離子體設備這樣溫度相對較高的等離子體設備，此時(shí)可以選擇真空等離子體設備。

其中，高附著(zhù)力樹(shù)脂如何選擇等離子態(tài)的氣體在高頻電下產(chǎn)生高速的電子直接撞擊門(mén)板表面的雜質(zhì)分子，使雜質(zhì)分子分解成小分子；另外，產(chǎn)生高速的電子與雜質(zhì)分子發(fā)生碰撞，在碰撞的過(guò)程中與等離子態(tài)氣體發(fā)生反應。在碰撞反應的整個(gè)過(guò)程中，氣體分子在被電流激發(fā)和電離后，分子產(chǎn)生了大量活躍粒子，這些活躍粒子與門(mén)板表面的雜質(zhì)分子因為撞擊發(fā)生化學(xué)反應，將雜質(zhì)分解成易于揮發(fā)的物質(zhì)而將其吸走。

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等離子清洗、刻蝕產(chǎn)生 plasma清洗裝置是在密封容器中設置兩個(gè)電極形成電磁場(chǎng)，用真空泵實(shí)現一定的真空度，隨著(zhù)氣體越來(lái)越稀薄，分子問(wèn)距及分子或離子的白由運動(dòng)距離也越來(lái)越長(cháng)，受磁場(chǎng)作用，發(fā)生碰撞而形成等離子體，同時(shí)會(huì )發(fā)生輝光。等離子體在電磁場(chǎng)內空間運動(dòng)，并轟擊被處理物體表面，從而達到表面處理、清洗和刻蝕的效果。

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氣體溫度為50-250℃或更低。激發(fā)分子之間會(huì )發(fā)生一系列相互作用（彈性或非彈性碰撞）。 & EMSP; & EMSP; 在電子與氣體分子的彈性碰撞中，只有少量的電子能量傳遞給氣體分子，氣體溫度升高。在非彈性碰撞中，電子會(huì )失去更多的能量并刺激內部運動(dòng)。振動(dòng)、旋轉或電子躍遷等分子會(huì )產(chǎn)生離子、自由基或亞穩態(tài)活性物質(zhì)。

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