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。等離子蝕刻機晶圓和線(xiàn)路板制造行業(yè)的應用情況：一、等離子蝕刻機應用介紹（1）晶圓制造行業(yè)應用芯片制造工業(yè)中四氟化碳氣體用于硅片的線(xiàn)刻蝕， 等離子蝕刻機使用四氟化碳來(lái)進(jìn)行氮化硅刻蝕和光刻膠。用純四氟化碳氣體或四氟化碳與氧配合的方法，等離子蝕刻機能夠在晶圓上形成微米級的氮化硅刻蝕，四氟化碳可與氧、氫配合使用四氟化碳來(lái)去除。
物理反應機制是活性粒子轟擊待清洗表面，使污染物脫離表面最終被真空泵吸走；化學(xué)反應機制是各種活性的粒子和污染物反應生成易揮發(fā)性的物質(zhì)，再由真空泵吸走揮發(fā)性的物質(zhì)。
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新型等離子表面處理機十大好處之八：等離子清洗各種材料無(wú)論能否加工金屬、半導體、氧化物、高分子材料（聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹(shù)脂、其他聚合物等）都可以加工。用等離子。因此，廣東專(zhuān)業(yè)定做等離子清洗機腔體廠(chǎng)家現貨它特別適用于不耐熱和不耐溶劑的材料。您還可以選擇性地清潔材料的整體、局部或復雜結構。新型等離子表面處理機的十大優(yōu)點(diǎn)中的九個(gè)，在清洗去污的同時(shí)，還能提高材料本身的表面性能。
有人或許會(huì )問(wèn)：溫度達幾千度怎樣還是低溫。要知道在這時(shí)，廣東專(zhuān)業(yè)定做等離子清洗機腔體廠(chǎng)家現貨粒子的溫度與用溫度計測出的溫度是不同的。因為這時(shí)的氣體密度很低，所以用溫度計測得的溫度與外界環(huán)境的溫度相差無(wú)幾，所以實(shí)踐上是低溫等離子體。當氣體處于高壓狀況并從外界取得很多能量時(shí)，粒子之間的相互碰撞頻率大大增加，各種微粒的溫度根本相同，即Te根本與Ti及Tn相同。
