甲烷轉化應選擇較低的功率密度。功率密度對C2烴產(chǎn)率和CO產(chǎn)率的影響隨功率密度的增加呈線(xiàn)性增加，增加漆的鋼板附著(zhù)力且CO產(chǎn)率的線(xiàn)性斜率明顯高于C2烴產(chǎn)率的線(xiàn)性斜率。當功率密度從350kJ/mol增加到2200kJ/mol時(shí)，C2烴的產(chǎn)率增加從5.7%提高到20.6%，提高了近15個(gè)百分點(diǎn)。CO產(chǎn)率方面，當功率密度從350kJ/mol增加到2200kJ/mol時(shí)，CO產(chǎn)率從11.6%提高到76.4%，提高了近65個(gè)百分點(diǎn)。

在真空狀態(tài)下，增加漆的鋼板附著(zhù)力氣體往往是擴散的，難以形成對流;真空等離子體清洗機室的熱量是由真空泵輸送的走路也相對有限。改進(jìn)措施:增加(大)進(jìn)氣口或增加抽氣速度，但要考慮真空放電和等離子體處理效果。在其他方面，等離子體發(fā)生器的選擇、功率尺寸的設置、真空室的尺寸以及電極結構的設計也有利于散熱的改善。。

如上所述，增加漆的鋼板附著(zhù)力HBr/O2在n型摻雜多晶硅上的刻蝕速率比未摻雜多晶硅的刻蝕速率高20%，容易產(chǎn)生頸效應。因此，HBr/O2的過(guò)蝕量應嚴格控制，一般以30%為宜。過(guò)蝕刻量過(guò)少會(huì )導致多晶硅柵側壁底部基腳過(guò)長(cháng)。過(guò)多的過(guò)度蝕刻會(huì )導致上頸部效果的增加。雖然HBr/O2蝕刻工藝對柵狀硅氧化物具有較高的蝕刻選擇比，但仍容易造成硅穿孔(點(diǎn)蝕)和硅損傷。

等離子體被稱(chēng)為“物質(zhì)的第四態(tài)”。我們通常對物質(zhì)的認知和接觸狀態(tài)有三種:氣、液、固三種狀態(tài)之間的轉換，增加漆的鋼板附著(zhù)力無(wú)論同一物質(zhì)同時(shí)含有能量，三種狀態(tài)之間的轉換，最低能態(tài)是固體，固體吸收能轉化為液體，液體吸收能轉化為氣體，氣體是三種能量最高的狀態(tài)。氣相吸收更多的能量，形成物質(zhì)的第四種狀態(tài)，即等離子體。

加什么可以增加漆的附著(zhù)力

破壞吸附污垢并清洗零件表面，造成污垢層的疲勞損傷而被清除，并振動(dòng)氣泡擦洗固體表面。它利用超聲波在液體中的空化作用來(lái)破壞物體表面污染物的沖擊，有些應用還需要化學(xué)清洗劑的輔助，從而達到清洗的目的。等離子清洗機采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效避免了液體清洗介質(zhì)造成的二次污染。

三、降低死層影響低溫等離子體的處理可以使得表面磷原子分布更加均勻，促進(jìn)磷原子落位正確，降低了電池片面的死層影響。

常用的有氫氣、氧氣、氬氣等。每種氣體的性質(zhì)不同，所能達到的效果也不同。經(jīng)常使用混合氣體。大氣壓等離子常用于普通壓縮空氣，當然也可以連接氮氣。例如，在電暈機上，如果您有特殊要求，可以連接到氮氣處理。國內很多公司都做不到。這是一個(gè)過(guò)程，但好消息是東信可以做到。三是清潔溫度。雖然大氣等離子清洗的溫度比較高，但大氣等離子主要安裝在流水線(xiàn)上，物料一個(gè)個(gè)通過(guò)，不會(huì )長(cháng)時(shí)間停留在噴槍下。

等離子清洗/蝕刻產(chǎn)生真空等離子清洗設備是在一個(gè)密閉容器中設置兩個(gè)電極形成電磁場(chǎng)，利用真空泵達到一定的真空程度，隨著(zhù)氣體越來(lái)越薄，分子之間的距離和分子或離子之間的自由運動(dòng)的距離越來(lái)越長(cháng)，磁場(chǎng)效應、碰撞和等離子體的形成、輝光都會(huì )同時(shí)發(fā)生。等離子體在電磁場(chǎng)中運動(dòng)，轟擊被處理物體的表面，從而達到表面處理、清洗和蝕刻的效果。

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