等離子清洗是一種干法物理化學(xué)清洗技術(shù)。它是利用低真空狀態(tài)下工藝氣體因電場(chǎng)的作用，產(chǎn)生輝光放電，將工藝氣體電離成離子流，轟擊工件表面，使其產(chǎn)生物理化學(xué)反應，達到清洗目的。等離子清洗機按其等離子激發(fā)頻率可分為：中頻(40KHz)、高頻(13.56MHz)和微波(2.45GHz)三種等離子清洗機，隨著(zhù)頻率的升高，離子濃度增大，離子能量下降。中頻40KHz等離子清洗機主要應用于污染較重，且不易受到損傷的元件(如外殼、成膜基板、焊片等)，其中主要是離子的物理撞擊作用(物理清洗)，化學(xué)清洗作用其次。微波等離子清洗機主要應用于敏感器件(半導體芯片，特別是微波器件)，這時(shí)主要是離子化學(xué)反應。而13.56MHz射頻等離子清洗機的應用則介于上述兩者之間，兼具化學(xué)和物理清洗。
13.56MHz射頻等離子清洗機與40KHz中頻等離子清洗機的區別如下：
目前市面所售的等離子清洗機有低頻放電方式，頻率為40KHz，低頻放電符合輝光放電的特性，與射頻放電相比，電流很小，不存在阻抗匹配的問(wèn)題，結構簡(jiǎn)單，多為電容耦合結構，因此電極的二次污染問(wèn)題仍然存在。
高頻放電的頻率一般為10M～100MHz，這一頻率屬于無(wú)線(xiàn)電頻譜范圍，因此又稱(chēng)為射頻(RF)放電，根據國際通用的規則射頻放電的頻率為13.56MHz。射頻放電能產(chǎn)生和維持高密度、連續、均勻的等離子體，高頻放電時(shí)，由于頻率很高，帶電粒子在電場(chǎng)周期內還未運動(dòng)到極板，電場(chǎng)就發(fā)生了改變，帶電粒子在電場(chǎng)作用下向反方向移動(dòng)，如此往復形成振蕩，因為粒子的運動(dòng)行程很長(cháng)，增加了與氣體分子碰撞的機率，電離度比直流輝光放電高出幾個(gè)數量級，而且可以在較低的電壓下維持。射頻放電在較高和較低的氣壓下都能放電，在工業(yè)中有不同應用。與直流放電相比，射頻放電有以下優(yōu)勢：
1.較低的氣壓條件下仍能放電，放電維持能量低，由于帶電粒子在極間做往復運動(dòng)，大大增加了電離機率，因此在較低的氣壓條件下仍能夠維持放電，形成穩定的等離子體，最低壓強可達10-1Pa。
2.射頻放電的粒子運動(dòng)機制決定了具有較高的電離度。
3.等離子體分布均勻。
綜上所述40KHz中頻等離子清洗機的作用主要為物理撞擊反應，其撞擊力度大，對被清洗表面影響最大；13.56MHz射頻等離子清洗機主要為物理加化學(xué)反應（需要采用氧氣、氫氣、氬氣等氣體，如采用單獨氬氣則為單獨物理反應），其撞擊力度適中，可以去除零件表面殘留的灰塵、一般氧化層等雜質(zhì)。24256