氣壓的范圍跨度從零點(diǎn)幾帕到幾十萬(wàn)帕，涂膜附著(zhù)力測定標準相應粒子密度的變化范圍達108數量級。通常氣體放電中的帶電粒子是電子和各種離子，典型的氣體放電的電子密度是1016~1020/m3。氣體放電中的正離子和負離子與原來(lái)的中性粒子不同，例如在空氣放電等離子體中所產(chǎn)生的大量離子，其中包括N+、N、O+、O2、NO-、NO2、O2和O3等.。每一種離子都將影響氣體放電的電特性，不過(guò)電子的作用通常占主導地位。

大氣等離子體清洗機建議選用帶流量控制器的特殊氣源，涂膜附著(zhù)力測定標準以提供穩定的工作氣體。本裝置優(yōu)點(diǎn)是攜帶方便、干燥、潔凈氣源、恒壓、恒流量。真空等離子清洗機流量控制器的選擇工藝氣體流量的穩定性會(huì )影響工業(yè)真空等離子清洗機的加工效果。大多數工藝對氣體流量的控制是非常嚴格的，所以工業(yè)真空等離子清洗機是選擇質(zhì)量流量控制器來(lái)實(shí)現對工藝氣體流量的控制。

表3-2 等離子體發(fā)生器能量密度對H2氣氛下C2H6反應的影響Ed/(kJ/mol) XC2H6/% YCH4/% YC2H4/% YC2H2/%320 37.6 2.6 3.7 10.6640 45.2 6.1 8.7 21.2860 59.2 7.0 9.2 28.7 0 61.6 7.9 9.6 34.6注：反應條件為C2H6/H2=2。

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影響涂膜附著(zhù)力的因素

等離子體可分為高溫等離子體和低溫等離子體兩種。冷等離子體的電離率低，電子溫度遠高于離子溫度，離子溫度甚至可??以與室溫媲美。因此，冷等離子體是一種非熱平衡等離子體，冷等離子體具有比普通化學(xué)反應更多樣化、更活躍、更容易接觸的許多活性粒子。它用于修改材料的表面，因為它會(huì )導致材料上的表面反射。市面上的低溫等離子表面處理設備種類(lèi)繁多（點(diǎn)擊查看詳情），讓人眼花繚亂。

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等離子發(fā)生器表面處理前后聚四氟乙烯材料成分的差異：等離子體由電子、離子、自由基和其他中性粒子組成。在這種情況下，電子、離子和自由基都是易與其他固體材料表面發(fā)生反應的反應性粒子。等離子體中含有大量活性粒子，在一定范圍內頻繁與材料表面高速碰撞。這會(huì )引起兩個(gè)反應。首先，具有活躍物理反應的顆粒與表面碰撞并被洗滌，最后被分離。來(lái)自表面的污染物。

超聲等離子體的自偏壓約為0V，低溫寬等離子體清洗機射頻等離子體的自偏壓約為250V，微波等離子體的自偏壓很低，只有幾十伏，三種等離子體的機理不同。超聲等離子體的反應是物理反應，射頻等離子體的反應是物理反應和化學(xué)反應，微波等離子體的反應是化學(xué)反應。超聲等離子體清洗對被清洗表面影響較大，因此在實(shí)際半導體生產(chǎn)應用中多采用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗。

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