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  等離子清洗機是利用等離子體達到常規清洗所不能達到的效果，微晶玻璃絲印附著(zhù)力不佳比如說(shuō)等離子體的活性組分是離子，電子和光子等組成，那么它所達到的清洗效果肯定和一般的超聲波清洗機之類(lèi)的清洗產(chǎn)品是不一樣的。等離子清洗機利用這些離子和光子等活性組分來(lái)處理工件的表面，而達到清洗的目的，很顯然這樣的清洗效果要比普通的清洗來(lái)得更加的好。

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自動(dòng)化離子清洗設備采用數控技術(shù)，自動(dòng)化程度高；具有高精度的控制裝置，時(shí)間控制的精度很高；正確的等離子體清洗不會(huì )在表面產(chǎn)生損傷層，表面質(zhì)量得到保證；采用氣體作為清洗介質(zhì), 在真空中進(jìn)行，不污染環(huán)境，可有效避免液體清洗介質(zhì)對清洗物體的二次污染；自動(dòng)化清洗系統可在工業(yè)清洗過(guò)程中實(shí)現機械化自動(dòng)清洗，不需人工清洗，為生產(chǎn)企業(yè)節省了大量人力，大大降低了企業(yè)用人成本、生產(chǎn)時(shí)間成本。

鉛污染治理技術(shù)目前處理鉛污染的方法主要采用紫外線(xiàn)或等離子清洗，這兩種方法都對鉛清洗具有獨特的適用性，并且需要根據特定的工藝進(jìn)行特定的選擇。干洗在這方面優(yōu)勢明顯，因為濕洗清洗后會(huì )造成環(huán)境和二次污染。等離子體中的活性粒子“活化”，可以有效去除物體表面的污染物，達到清洗的目的，即等離子體清洗。等離子是等離子清洗機的必要條件，等離子吸附在被清洗物體的表面。

超聲等離子體的自偏壓約為0V，低溫寬等離子體清洗機射頻等離子體的自偏壓約為250V，微波等離子體的自偏壓很低，只有幾十伏，三種等離子體的機理不同。超聲等離子體的反應是物理反應，射頻等離子體的反應是物理反應和化學(xué)反應，微波等離子體的反應是化學(xué)反應。超聲等離子體清洗對被清洗表面影響較大，因此在實(shí)際半導體生產(chǎn)應用中多采用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗。

但從對環(huán)境的影響、原材料的消耗以及未來(lái)的發(fā)展來(lái)看，干洗明顯優(yōu)于濕法清洗。在干洗中，等離子清洗發(fā)展迅速且優(yōu)勢明顯，等離子清洗已逐漸廣泛應用于半導體制造、微電子封裝、精密機械等行業(yè)。2、等離子體清洗機的機理等離子體是一種部分電離的氣體，是除固體、液體和氣體外的第四種狀態(tài)。等離子體由電子、離子、自由基、光子和其他中性粒子組成。由于等離子體中電子、離子和自由基等活性離子的存在，它很容易與固體表面發(fā)生反應。

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