因熔著(zhù)磨損大多發(fā)生在摩擦副初期磨合過(guò)程中,噴粉附著(zhù)力不良后果而且它的產(chǎn)生又往往破壞了相匹配的零件工作表面,使得整個(gè)機組不能正常運行。因此在所有磨損形式中,它帶來(lái)的破壞后果顯得尤為突出。
5、等離子清洗機可輕松進(jìn)行數控技術(shù),噴粉附著(zhù)力不良后果自動(dòng)化程度高,控制精度高,時(shí)間控制準確。通過(guò)適當的等離子清洗,它在真空中運行,不會(huì )造成環(huán)境污染,也不會(huì )造成表面損壞。 , 并確保清潔后的表面不受二次污染的影響。二次污染。相比之下,傳統的清洗方法不能完全去除材料的表面薄膜,留下一層很薄的雜質(zhì)。等離子清洗機使用等離子撞擊材料表面,并以溫和而完整的方式摩擦表面。
而等離子設備采用中頻電源時(shí),粉末噴粉附著(zhù)力不良怎么辦功率大、能量強、冷卻溫度高,無(wú)需加水。因此,清洗不耐溫度的材料時(shí),有必要注意溫度。等離子體設備常用的電源有兩種。一種是13.56khz的射頻電源,產(chǎn)生高等離子體密度、軟能量和低溫。
它破壞污垢的吸附和清洗劑的表面,粉末噴粉附著(zhù)力不良怎么辦分離污垢層的疲勞破壞,并以氣泡的振動(dòng)摩擦固體表面。它利用超聲波在液體中的空化效應破壞物體表面的污染物并產(chǎn)生沖擊力。此外,一些應用需要輔助化學(xué)清潔劑來(lái)實(shí)現清潔目標。等離子清潔器使用氣體作為清潔介質(zhì)。這有效地避免了液體清洗介質(zhì)對被清洗物體的二次污染。
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等離子排除了由濕式化學(xué)清洗帶來(lái)的危險,與其它清洗方式相比的優(yōu)勢在于清洗后無(wú)廢液??傊?,等離子工藝是一種簡(jiǎn)單到幾乎不需管理的清洗工藝。。
超聲等離子體的自偏置約為0V,射頻等離子體的自偏置約為250V,微波等離子體的自偏置很低,僅為幾十伏,三種等離子體的機理不同。超聲波等離子體的反應是物理反應,射頻等離子體的反應是物理反應和化學(xué)反應,微波等離子體的反應是化學(xué)反應。超聲波等離子體清洗對被清洗表面的影響最大,因此射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗在半導體生產(chǎn)應用中多使用。。
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