這在接觸孔與天線(xiàn)的比例非常小時(shí)（例如20）會(huì )導致PID問(wèn)題，外延片等離子體蝕刻機器但對于高層金屬，直到天線(xiàn)比例在數千個(gè)時(shí)才會(huì )出現PID問(wèn)題。.. ..金屬層蝕刻的過(guò)蝕刻時(shí)間越長(cháng)，PID越差。高頻功率與低頻功率之比越高，PID 越差。PID的問(wèn)題是電源的頻率越高，等離子體密度越高，相應的電荷堆積越嚴重，這使得PID變得更糟，電源的頻率越高，它變得越嚴重.然而，應仔細考慮頻率選擇，因為高頻功率對于控制蝕刻中的聚合物副產(chǎn)物很重要。
在材料之前，外延片等離子體蝕刻機器需要用等離子表面處理對表面進(jìn)行清潔和蝕刻，但通過(guò)在化纖表面引入極性或活性基體，同時(shí)去除有機（有機）涂層和污染物來(lái)引入活性中心。形成中心）），同時(shí)也引起接枝、交聯(lián)等反應，利用化學(xué)纖維表面的清洗、蝕刻、活化（化學(xué)）、接枝、交聯(lián)等綜合作用。
除離子外，外延片等離子體蝕刻機器冷等離子體中的大多數粒子具有比這些化學(xué)鍵的鍵能更高的能量。但其能量遠低于高能放射線(xiàn)，因此只涉及材料表面（納米和微米之間），不影響材料基體的性能。但在實(shí)際使用中，能量過(guò)大或長(cháng)期作用會(huì )損壞材料表面，甚至破壞材料基體的固有性能。由于低溫等離子表面處理，使材料表面發(fā)生多重物理化學(xué)變化，被蝕刻使表面粗糙，形成致密的交聯(lián)層，或引入含氧極性基團親水。粘合劑并提高染色性和生物相容性。
..等離子體是物質(zhì)的狀態(tài)，外延片等離子體蝕刻也稱(chēng)為物質(zhì)的第四狀態(tài)，不屬于一般固液氣體的三種狀態(tài)。當向氣體施加足夠的能量以使其電離時(shí)，它就會(huì )變成等離子體狀態(tài)。等離子體的“活性”成分包括離子、電子、原子、反應基團、激發(fā)核素（亞穩態(tài)）、光子等。將反應性氣體引入等離子清潔器的廢氣中會(huì )導致活性物質(zhì)表面發(fā)生復雜的化學(xué)反應，引入新的官能團，如烴基、氨基和羧基。 ..這些官能團是活性基團，可以顯著(zhù)提高材料的表面活性。
外延片等離子體蝕刻機器
在種子等離子表面處理過(guò)程中，等離子能有效殺滅種子表面的細菌，從而提高種子在發(fā)芽過(guò)程中的抗病性，顯著(zhù)降低苗期病害的發(fā)展。 ..在種子等離子表面處理過(guò)程中，激活種子中各種酶的活性，提高了作物的耐旱性、耐鹽性和耐寒性。 4. 增長(cháng)的好處是顯而易見(jiàn)的。種子經(jīng)等離子體表面處理后，種子活性和各種酶活性顯著(zhù)提高，植株根系生長(cháng)得到極大促進(jìn)，根數和干物質(zhì)重顯著(zhù)增加。
& EMSP; & EMSP; 離子型氮化碳在短時(shí)間內高效，可以獲得較厚的復合層，具有優(yōu)異的耐磨性、抗粘附性和抗疲勞性。與常規工藝相比，應用于模具的離子氮化碳技術(shù)具有高效、清潔、節能、滲透層質(zhì)量高、相組成易于控制等優(yōu)點(diǎn)。該工藝具有很強的市場(chǎng)競爭力。
在等離子體系統中，許多類(lèi)型的活性粒子會(huì )引起許多反應，因此在反應過(guò)程中幾乎不可能操縱特別重要和決定性的粒子。在等離子體環(huán)境中，高能粒子可以破壞分子中的共價(jià)鍵。高能電子參與電子能量分布函數的尾部以及非平衡等離子體中存在的強局部電場(chǎng)可能完成新的化學(xué)反應。..等離子體環(huán)境適用于許多化學(xué)反應。產(chǎn)生特定反應的能力主要取決于輸入過(guò)程參數，例如氣體類(lèi)型、流速、壓力和輸入功率。邊界和基地之間也有各種影響。
這些泵還可以處理顆粒物、冷凝物或腐蝕副產(chǎn)品?？辙D泵的優(yōu)點(diǎn)是優(yōu)化了生產(chǎn)燃料的消耗。這些泵不需要預防性維護。 (換油) 三、羅茨泵旋片泵產(chǎn)生的壓力有限。建議與羅茨泵結合使用，以提高抽吸性能。它們形成一個(gè)所謂的泵站。常見(jiàn)的組合有： 1. DI 泵（例如旋片泵）產(chǎn)生預真空。它被稱(chēng)為“前級泵”。 2. 作為第二臺泵，使用羅茨泵提高泵速。
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