由于干法清洗不能破壞芯片的表面特性和電導率，測定漆膜附著(zhù)力試驗所以可以去除污染物，所以在許多清洗方法中有明顯的優(yōu)勢，等離子清洗機具有明顯的優(yōu)勢，具有操作簡(jiǎn)單、控制精確、無(wú)需加熱處理等優(yōu)點(diǎn)。整個(gè)過(guò)程無(wú)污染，安全可靠，在先進(jìn)包裝領(lǐng)域得到了廣泛的推廣和應用。。

等離子等離子體清潔器（等離子清洗器），測定漆膜附著(zhù)力試驗又稱(chēng)等離子清洗器，或等離子表面治療儀，是一項全新的高科技技術(shù)，利用等離子體達到常規清洗方法無(wú)法達到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫物質(zhì)的第四態(tài)，不屬于常見(jiàn)的固、液、氣三種狀態(tài)。施加足夠的能量使氣體電離，就變成了等離子體狀態(tài)。等離子體的“活性”成分包括：離子、電子、原子、活性基團、激發(fā)核素、光子等。

3.金屬半導體工藝中常見(jiàn)的金屬雜質(zhì)有鐵、銅、鋁、鉻、鎢、鈦、鈉、鉀、鋰等，測定漆膜附著(zhù)力試驗這些雜質(zhì)主要來(lái)自各種器皿、管材、化學(xué)試劑，以及半導體晶圓加工過(guò)程中的各種金屬污染。這類(lèi)雜質(zhì)的去除常采用化學(xué)方法進(jìn)行。由各種試劑和化學(xué)藥品配制的清洗液與金屬離子反應形成金屬離子絡(luò )合物，從晶片表面分離出來(lái)。4.氧化物暴露在氧氣和水中的半導體晶片表面會(huì )形成自然氧化層。

等離子體被稱(chēng)為“物質(zhì)的第四態(tài)”。我們通常對物質(zhì)的認知和接觸狀態(tài)有三種:氣、液、固三種狀態(tài)之間的轉換，測定漆膜附著(zhù)力試驗無(wú)論同一物質(zhì)同時(shí)含有能量，三種狀態(tài)之間的轉換，最低能態(tài)是固體，固體吸收能轉化為液體，液體吸收能轉化為氣體，氣體是三種能量最高的狀態(tài)。氣相吸收更多的能量，形成物質(zhì)的第四種狀態(tài)，即等離子體。

測定漆膜附著(zhù)力常用方法

氣體可以分解并最終釋放出CO2和H2O等無(wú)害物質(zhì)，同時(shí)清新空氣。。冷等離子處理設備是真空等離子清洗機放電等特殊場(chǎng)合產(chǎn)生的氣體分子質(zhì)量。等離子清洗/蝕刻 產(chǎn)生等離子的裝置將兩個(gè)電極設置在密閉容器中形成電磁場(chǎng)，并利用真空泵達到一定的真空度。時(shí)間越長(cháng)，就越容易受到磁場(chǎng)的影響。在現場(chǎng)，它們碰撞形成等離子體并產(chǎn)生輝光。等離子體在電磁場(chǎng)中在空間中運動(dòng)，撞擊待處理表面，達到表面處理、清洗、蝕刻的效果。。

就碰撞的類(lèi)型而言，等離子體清洗機中的粒子間的碰撞主要能夠分為彈性碰撞和非彈性碰撞兩種，我們先來(lái)了解一下等離子體清洗機中的彈性碰撞：等離子體清洗機中的彈性碰撞通常是指一種碰撞類(lèi)型，通常表現為在碰撞的過(guò)程中粒子的總動(dòng)量守恒，總動(dòng)能守恒，參與碰撞的粒子內能不變，沒(méi)有新的粒子或光子產(chǎn)生，只改變粒子速度，發(fā)生動(dòng)量和動(dòng)能轉換。

材料表面等離子體處理的意義有效去除物體表面的有機污染物和氧化物是常規清洗機無(wú)法達到的處理效果。等離子體表面處理機的主要特性一般來(lái)說(shuō)，傳統濕洗法清洗后，表面會(huì )有殘留物，只有等離子體表面處理器才能完全凈化表面，獲得超高潔凈度的表面，等離子體處理后的材料表面僅作用于材料的納米表面，不改變材料原有特性，賦予其另一特性，在對表面潔凈度要求較高的工藝中，替代濕處理工藝被廣泛使用。

與過(guò)去的植絨選用的使用溶劑型膠水清洗相比，等離子清洗機外表處理方式具有以下優(yōu)勢︰a、能夠達到條狀、平面、曲面、箱體等多種不規則形狀的清洗要求，清洗更為均勻，不會(huì )出現大面積倒伏和色差問(wèn)題。b、使用易上手，無(wú)環(huán)境污染、無(wú)有害氣體。c、無(wú)揮發(fā)的刺激性氣體，不會(huì )影響技術(shù)人員的身體健康。

測定漆膜附著(zhù)力試驗