含VOCS的氣體從吸收塔底部進(jìn)入塔內，pet表面處理附著(zhù)力在上升過(guò)程中從塔頂與吸收塔逆流接觸，精制氣體從塔頂排出。吸收了VOCS的吸收塔經(jīng)過(guò)換熱器后進(jìn)入汽提塔上部，在高于吸收溫度或低于吸收壓力的條件下解吸。解吸的吸收劑在溶劑冷凝器中冷凝并返回吸收塔。解吸出來(lái)的VOCS氣體通過(guò)冷凝器和氣液分離器，作為純VOCS氣體離開(kāi)汽提塔，重新利用。該工藝適用于VOCS濃度高、溫度低的氣體凈化。否則，需要進(jìn)行相應的工藝調整。

簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，pet表面印刷附著(zhù)力檢測自動(dòng)清洗臺是多塊同時(shí)清洗，其優(yōu)點(diǎn)是設備成熟，生產(chǎn)率高，而單件清洗設備采用分片清洗，其優(yōu)點(diǎn)是清洗精度高，清洗反面、斜面、邊緣，避免背面、斜面、邊緣交叉污染。45nm之前，自動(dòng)清潔臺可滿(mǎn)足清潔要求，目前仍在使用；對于45nm以下的清洗，則依靠單晶清洗設備來(lái)達到清洗精度的要求。單晶圓低溫等離子清洗是當今可控清洗設備的主流產(chǎn)品，其工藝連接點(diǎn)不斷減少。轉換失敗。

因此，pet表面印刷附著(zhù)力檢測它被廣泛應用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫學(xué)科學(xué)、微流體科學(xué)、生物醫學(xué)科學(xué)、微流體工程等領(lǐng)域。等離子清洗機技術(shù)始于20世紀初，隨著(zhù)高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)的飛速發(fā)展，其技術(shù)應用也越來(lái)越普遍。它目前在許多高科技領(lǐng)域中占有重要的技術(shù)地位。等離子清洗技術(shù)對經(jīng)濟和人類(lèi)文明產(chǎn)生重大影響，尤其是半導體和光電子行業(yè)。

在等離子體化學(xué)反應中，pet表面印刷附著(zhù)力檢測起化學(xué)作用的粒子主要是陽(yáng)離子和自由基粒子。自由基在化學(xué)反應過(guò)程中的能量轉移活化（化學(xué)）作用，被激發(fā)的自由基具有更高的能量，與表面分子結合時(shí)，更容易形成新的自由基。新形成的自由基也處于不穩定的高能??狀態(tài)，可能會(huì )引起分解反應，生成新的自由基，同時(shí)變成小分子。該反應過(guò)程繼續進(jìn)行并且可以分解成水和二氧化碳。一個(gè)簡(jiǎn)單的分子。

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根據等離子體種類(lèi)的不同，等離子體清洗可分為化學(xué)清洗、物理清洗和物理化學(xué)清洗。等離子體清洗是一種高精度的干洗方法。其原理是在真空狀態(tài)下通過(guò)射頻源產(chǎn)生的高壓交變電場(chǎng)將氧、氬、氫等工藝氣體激發(fā)成高反應性或高能量的離子，通過(guò)化學(xué)反應或物理作用對工件表面進(jìn)行處理，實(shí)現分離；亞水平污染去除（一般厚度3～30nm)，以提高表面活性。對應不同的污染物，應采用不同的清洗工藝，以達到最佳的清洗效果。

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