微波等離子清洗設備與射頻等離子清洗設備對比目前，等離子激勵電源頻率主要有四種：直流、低頻、射頻、微波。這幾種是依據國際通信機構規定可以使用的頻率。射頻等離子清洗設備使用頻率為13.56MHz，微波等離子清洗設備使用設備為2.45GHZ。
微波等離子清洗設備與射頻等離子清洗設備對比
與射頻等離子清洗設備的匹配性相比,微波等離子清洗設備的匹配性更加困難,主要由于微波反饋過(guò)程中,如果不能精確的進(jìn)行負載調節,微波源將很容易造成損傷。所以說(shuō)精確的匹配性調節是獲得優(yōu)良清洗效果的必要條件。微波源配備合適的匹配系統可以根據清洗腔體及產(chǎn)品等清洗條件的不同進(jìn)行負載阻抗自動(dòng)調節，使清洗效果及一致性達到最佳。
微波頻率相對于射頻有兩個(gè)決定性?xún)?yōu)勢，其一是離子濃度最高,在微波等離子里的反應微粒數量要遠遠大于在射頻等離子里的反應等離子數量，這會(huì )使反應速度更快，反應時(shí)間更短。其二，等離子的一個(gè)自然特性是可以在直接暴露于等離子的基材上生成一種自偏壓。這種自偏壓要取決于等離子的激勵頻率,比如頻率為2.45GHz的微波一般僅要求5-15伏,而在同樣的情況下,射頻等離子自偏壓卻要求100伏。
頻率越高，等離子體離子密度越高；頻率越高，自偏壓越低。綜上所述，相對于射頻等離子清洗機，微波等離子清洗機的優(yōu)點(diǎn)在于：（1）無(wú)內部電極，可避免放電污染，能量轉換效率高，可產(chǎn)生大范圍的高密度等離子體；（2）無(wú)損傷工藝，自偏壓極??；（3）高電子密度，制備各種功能薄膜材料的速率較快；（4）離子沖擊小，對器件的損傷??；（5）不產(chǎn)生紫外線(xiàn)輻射。正是因為具有以上優(yōu)點(diǎn)，微波等離子在一些工藝中具有不可替代性，例如一些電敏感器件制程中的去膠和清洗。
以上就是國產(chǎn)等離子清洗機廠(chǎng)家關(guān)于微波等離子清洗設備與射頻等離子清洗設備對比的簡(jiǎn)單介紹，由于激發(fā)頻率高，離子動(dòng)能小，化學(xué)等離子作用在微波等離子清洗設備中占主要部分，可以實(shí)現更均勻有效地清洗，在清洗中沒(méi)有物理等離子體所產(chǎn)生的物理沖擊和濺射現象，在高可靠性要求的器件尤其是軍用器件生產(chǎn)工藝過(guò)程中，微波等離子清洗設備成為關(guān)鍵首選的設備。微波等離子清洗設備與射頻等離子清洗設備對比00224436