1. 采用數控技術(shù)高度自動(dòng)化 2. 采用先進(jìn)控制裝置高度精確的時(shí)間控制 3. 正確的等離子清洗不損傷被包裝產(chǎn)品表面 4. 被包裝和清洗后的產(chǎn)品表面 無(wú)損傷二次污染 5. 環(huán)保友好、環(huán)保、無(wú)環(huán)境污染。使用等離子清洗機時(shí)需要注意一些問(wèn)題，新型高附著(zhù)力環(huán)氧底漆清洗有幾個(gè)優(yōu)點(diǎn)。等離子處理作為一種新型的表面處理技術(shù)，近年來(lái)已在各個(gè)行業(yè)得到應用。等離子技術(shù)也有自己的技術(shù)特點(diǎn)。

利用電漿清洗機的蝕刻系統除去孔內的灰塵和微蝕刻: 電漿清洗機從二十世紀初開(kāi)始。伴隨著(zhù)高科技產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展，高附著(zhù)力環(huán)氧底漆它的應用日益廣泛，目前在很多高科技領(lǐng)域都處于核心位置，電漿清洗機對產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟和人類(lèi)文明的影響最為顯著(zhù)，首推了電子工業(yè)，特別是半導體光電行業(yè)。電漿清洗機具有成本低、勞動(dòng)量小、工作效率高等優(yōu)點(diǎn)，是1種新型的電漿清洗機方式。 我們都知道，太陽(yáng)能光伏產(chǎn)業(yè)對清潔生產(chǎn)技術(shù)要求很高。

一般其輸出功率范圍為10～10瓦,效率較高(約為50%～90%)，鋅黃高附著(zhù)力環(huán)氧底漆使用壽命受電極壽命限制。由于電極受活性工作氣（氧、氯、空氣）的侵蝕,炬的連續壽命一般不超過(guò)200小時(shí)；備有補充電極的電弧等離子體炬，壽命可達數百小時(shí)。目前制造新型的、可在高壓強（≤1.01×10帕）和低壓強 (≤1.33帕)下工作的電弧等離子體炬以及三相大功率電弧等離子體炬的條件已基本成熟。

等離子體中的高能反應基團與表面碰撞，新型高附著(zhù)力環(huán)氧底漆引起濺射、熱蒸發(fā)或光解。等離子專(zhuān)用清洗工藝主要是基于等離子濺射和蝕刻所帶來(lái)的物理和化學(xué)變化。在物理濺射過(guò)程中，等離子體中高能離子的脈沖表面撞擊會(huì )導致表面原子的位移，在某些情況下，會(huì )導致表面下原子的位移，因此物理濺射不是選擇性的。在化學(xué)蝕刻過(guò)程中，等離子體中的反應基團可以與表面原子和分子發(fā)生反應，并抽出產(chǎn)生的揮發(fā)物。

鋅黃高附著(zhù)力環(huán)氧底漆

采用COB/COG/COF技術(shù)制造的手機攝像頭模組已廣泛應用于千萬(wàn)像素手機。等離子清洗技術(shù)在這些工藝中發(fā)揮著(zhù)越來(lái)越重要的作用，如去除濾鏡、支架、電路板墊表面的有機污染物，對各種材料表面進(jìn)行活化、粗化處理，以提高支架與濾鏡的結合性能，提高布線(xiàn)可靠性，提高手機模組良品率等。通過(guò)等離子體轟擊物體表面，可以實(shí)現物體表面的刻蝕、活化和清洗，顯著(zhù)加強表面的粘接和焊接強度。

通過(guò)這種方式,應用于等離子體表面處理后的表面材料,材料的原始表面化學(xué)鍵可以毀滅,以創(chuàng )建一個(gè)新的反應氛圍,從而形成交聯(lián)網(wǎng)絡(luò )的結構與這些債券在等離子體,并極大地刺激(激活)表面特異性。第二，等離子體表面處理可以形成新的功能群在等離子體表面處理中，混合氣體的反應會(huì )在放電混合物中建立，使被活化的原料表面會(huì )發(fā)生復雜的化學(xué)反應。

可以實(shí)現共軛匹配，將總阻抗變?yōu)榧冸娮?，即負載阻抗Z必須為(a-JB)典型的高頻匹配網(wǎng)絡(luò )如下圖所示。在等離子清洗機的設計中，為了將高頻電流控制在回路的合理取值范圍內，高頻發(fā)生器的輸出阻抗往往設計為純電阻，其電阻值一般為50。

如果頻率太高且電子振幅小于平均自由程，電子氣分子碰撞的機會(huì )就會(huì )降低，電離率也會(huì )降低。常用頻率有13.56MHZ和2.45GHZ。功率的影響：在一定量的氣體下，功率高，等離子體中活性粒子的密度高，脫膠速度快，但當功率增加到一定值時(shí)，被反應消耗掉和電源是可用的。失去。它很大并且不會(huì )顯著(zhù)增加脫膠率。由于功率大、板溫高，必須根據技術(shù)要求調整功率。

高附著(zhù)力環(huán)氧底漆