plasma設備常用的電源有兩種，附著(zhù)力拉拔試驗儀一種是13.56KHz的射頻電源，這種電源產(chǎn)生的等離子密度高，能量柔和，溫度低，功率一般為1~2KW，大的可達5KW，小的可達幾百W，是用得多的N2電源；另一種是40KHz的中頻電源，這種電源與射頻電源正好相反，等離子的密度不高，但強度大，能量高，高度高，功率也高，大功率可達幾十KW，甚至從理論上講，幾百KW，常用作除渣、刻蝕，真空plasma設備如果使用中頻電源，需要加水冷，這也是plasma設備常用的電源。
力拉拔試驗儀（漆的附著(zhù)力拉拔測定標準）.jpg)
不同的等離子體產(chǎn)生的自偏壓是不同的。超聲波等離子的自偏壓在0V左右，附著(zhù)力拉拔試驗儀高頻等離子的自偏壓在250V左右，微波等離子的自偏壓很低，幾十伏。三種等離子體的機理不同。超聲波等離子體產(chǎn)生的反應是物理反應，高頻等離子體產(chǎn)生的反應既是物理反應又是化學(xué)反應，微波等離子體產(chǎn)生的反應是化學(xué)反應。但由于40KHz是早期技術(shù)，射頻匹配后的能耗太高，實(shí)際作用于待清潔物體的能量還不到原始能量的1/3。
六、低溫等離子發(fā)生器平臺部件經(jīng)過(guò)硬質(zhì)氧化處理后具有以下特點(diǎn)。 （1）低溫等離子發(fā)生器表面強度高達HV500； (2) 非常好的體積電阻率； (3)具有很強的耐磨性； (4)低溫等離子發(fā)生器具有優(yōu)良的耐腐蝕性； (5)可以增加組件的使用時(shí)間。。
離子清洗機也被稱(chēng)為等離子體表面處理設備,利用等離子體處理設備清潔物體的表面,使清洗效果很好,等離子清洗機屬于一個(gè)新的高科技設備產(chǎn)品,等離子清洗機清洗的目的,修改、光刻膠灰。
漆的附著(zhù)力拉拔測定標準
這些官能團都是活性基團，可以顯著(zhù)提高材料的表面活性。等離子清洗機的優(yōu)點(diǎn)： 1.修改只發(fā)生在材料的表面上，而不是表面上。影響基體的固有性能，加工均勻性好； 2.動(dòng)作時(shí)間短（幾秒到幾十秒），溫度低，效率高； 3.對被加工材料無(wú)嚴格要求，具有普遍適應性；四。無(wú)污染、無(wú)廢液、廢氣處理、節能、降低成本；幾何形狀系統：大或小、簡(jiǎn)單或復雜、零件或纖維、可加工五。工藝簡(jiǎn)單，操作方便。
漆的附著(zhù)力拉拔測定標準
