等離子設備中的分子一般由幾個(gè)原子組成,潮濕表面上有附著(zhù)力的樹(shù)脂由于這些原子相互作用,分子能級比原子能級復雜,而且氣體分子的激發(fā)和電離也不同于氣體原子的激發(fā)和電離。除了電子能量,分子的內能還包括振動(dòng)能和轉動(dòng)能,這些能量也是分離的,能量級圖非常復雜。

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物理吸附是分子與表面的弱相互作用,附著(zhù)力的是幾還是分這個(gè)過(guò)程是放熱的,被物理吸附的分子與表面的結合能很弱,吸附后能迅速從表面擴散;化學(xué)吸附是當一個(gè)被吸附的原子或分子與表面原子形成化學(xué)鍵,這是一個(gè)非常放熱的過(guò)程。解吸是在等離子清潔器中的等離子體與固體材料表面之間的界面處,通過(guò)??電子、離子、光子和中性粒子將能量轉移到固體材料表面吸附的原子或分子上。分子可以克服吸附。通常有離子解吸、電子解吸、中性粒子解吸、光解吸等。

等離子體處理還具有以下幾個(gè)特點(diǎn):容易采用數控技術(shù),附著(zhù)力的是幾還是分自動(dòng)化程度高;具有高精度的控制裝置,時(shí)間控制的精度很高;正確的等離子體清洗不會(huì )在表面產(chǎn)生損傷層,表面質(zhì)量得到保證;由于是在真空中進(jìn)行,不污染環(huán)境,保證清洗表面不被二次污染。。很多接觸過(guò)等離子設備的人士都知道,我們的等離子設備只是在行業(yè)中的一個(gè)統稱(chēng),等離子設備是分為很多種的,比如說(shuō)有大氣等離子設備,有真空等離子設備,還有卷對卷等離子設備。

等離子體是指被電離的氣體,潮濕表面上有附著(zhù)力的樹(shù)脂它與固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)物質(zhì)比較有不同的物理和化學(xué)性質(zhì),常被稱(chēng)為物質(zhì)的第四態(tài)。由于等離子體中存在大量電子、正離子、自由基、亞穩態(tài)的分子和原子等,當等離子體與被清洗物質(zhì)表面相互接觸時(shí),會(huì )產(chǎn)生物理刻蝕、化學(xué)分解等物理和化學(xué)過(guò)程,從而分解或清除污染物。大氣常壓等離子清洗機結構組成:大氣常壓等離子清洗機,包括高頻電源、供氣源、電極、等離子體放電區間和噴口等,如圖1所示。

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這種物質(zhì)的狀態(tài)稱(chēng)為等離子體狀態(tài),也稱(chēng)為位物質(zhì)的第四狀態(tài)。 低溫等離子體是指低壓放電(輝光、電暈、高頻、微波等)行成的電離氣體。)。在電場(chǎng)的作用下,氣體中的自由電子從電場(chǎng)中獲取能量,變成高能電子。

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等離子排除了由濕式化學(xué)清洗帶來(lái)的危險,與其它清洗方式相比的優(yōu)勢在于清洗后無(wú)廢液??傊?,等離子工藝是一種簡(jiǎn)單到幾乎不需管理的清洗工藝。。

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