2、石英玻璃等離子體化學(xué)氣相沉積法生產(chǎn)石英玻璃等離子體化學(xué)氣相沉積法是一種以高頻等離子體為熱源，等離子體化學(xué)氣相沉積采用化學(xué)氣相沉積法合成高純度石英玻璃的實(shí)驗裝置。對液滴生長(cháng)和凝結的動(dòng)力學(xué)分析表明，等離子體增強化學(xué)氣相沉積過(guò)程中的顆粒沉積過(guò)程分為三個(gè)階段：化學(xué)反應、成核和粘附沉積。合成的石英玻璃具有優(yōu)異的光譜特性，羥基低，紫外透過(guò)率高，波長(cháng)188～3200NM的透光率超過(guò)84%?？蓾M(mǎn)足高科技領(lǐng)域對寬帶透光材料的需求。

等離子清洗劑在沉積過(guò)程中的應用可分為四個(gè)步驟。 (1) 電子與反應氣體碰撞產(chǎn)生離子和自由基； (2) 活性成分從等離子體傳輸到基材表面； (3) 活性成分吸附或物理化學(xué)作用于基材表面。 (4)活性成分或反應產(chǎn)物成為沉積膜的組分。在高密度等離子體化學(xué)氣相沉積中，等離子體化學(xué)氣相沉積氣相沉積和蝕刻通常同時(shí)進(jìn)行。在這個(gè)過(guò)程中存在三種主要機制：等離子體離子輔助沉積、氬離子濺射和濺射材料的再沉積。

4、低溫等離子化學(xué)氣相沉積機的表面氣相沉積功能等離子化學(xué)氣相沉積是利用等離子體活化反應氣體，等離子體化學(xué)氣相沉積原理圖促進(jìn)基板表面或表面附近空間發(fā)生化學(xué)反應，形成固體薄膜的技術(shù) 等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)的基本原理是在高頻或直流電場(chǎng)的作用下，源氣體電離形成等離子體，以低溫等離子體為能源，適量的反應氣體利用等離子體放電，活化反應氣體，實(shí)現化學(xué)放電技術(shù)。

這兩種功能為提高涂層的附著(zhù)力、降低沉積溫度和提高反應速率創(chuàng )造了有利條件。等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)可分為直流輝光放電、高頻放電、微波等離子體放電等等離子體能源。頻率越高，等離子體化學(xué)氣相沉積等離子化學(xué)氣相沉積的效果越明顯，形成化合物的溫度越低。 PCVD工藝設備由沉積室、反應物供應系統、放電電源、真空系統和檢測系統組成。氣源應使用氣體凈化器去除水分和其他雜質(zhì)。所需的流速通過(guò)調節裝置獲得，并與源材料一起發(fā)送到沉積室。

等離子體化學(xué)氣相沉積

我可以做它。沒(méi)有油漆剝落。

等離子體化學(xué)氣相沉積