等離子工作形態(tài)以炬式較為常見(jiàn)(產(chǎn)品如右圖),環(huán)氧樹(shù)脂附著(zhù)力分級條狀放電模式使得表面處理后均勻性不高。設備工作過(guò)程中會(huì )產(chǎn)生超標的臭氧與氮氧化物等對人體有害的氣體,必須要配套廢氣排放系統一同工作。因為上述特性,Corona等離子主要適用于對處理效果要求不高,并且后續運行成本低的行業(yè)(可使用空氣),比如紡織業(yè)等。 1.2Glow等離子。主要分為兩種方式,即腔式與大氣壓式,此兩種等離子技術(shù)均為直接式等離子。

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2.效率高:整個(gè)流程可在短時(shí)間內完成。3.成本低:裝置簡(jiǎn)單,環(huán)氧樹(shù)脂附著(zhù)力分級操作維護方便,處理廢液無(wú)成本。4.處理更精細:能夠深入微孔、凹陷內部,完成清潔任務(wù)。5.適用性廣:等離子體治療不限制治療的對象、材料和形狀??偟膩?lái)說(shuō),目前等離子清洗技術(shù)應用比較廣泛,發(fā)展前景也越來(lái)越大。它也將成為工業(yè)清洗活動(dòng)中越來(lái)越重要的工藝之一。如果您想了解等離子清洗機的信息,可以聯(lián)系在線(xiàn)客服!。

在進(jìn)行等離子體刻蝕時(shí),環(huán)氧樹(shù)脂能增加附著(zhù)力嗎工作溫度和壓力也起著(zhù)重要作用,工作溫度和壓力的微小變化會(huì )顯著(zhù)改變電子的碰撞頻率。RIE(反應離子刻蝕)利用物理和化學(xué)機制實(shí)現單向的高水平表面刻蝕。因為RIE過(guò)程將物理和化學(xué)作用結合在一起,它比單獨的等離子刻蝕更快。高能量的離子碰撞使等離子體中的電子被剝離,并且允許使用帶正電荷的等離子體進(jìn)行表面處理。。

等離子體處理機理分析:氧氣、氮氣、甲烷、水蒸氣等氣體分子在高頻電場(chǎng)作用下處于低壓狀態(tài),環(huán)氧樹(shù)脂附著(zhù)力分級在輝光放電的情況下可以分解成加速的原子和分子。產(chǎn)生的電子、解離的原子和分子具有正電荷和負電荷。當以這種方式產(chǎn)生的電子被電場(chǎng)加速時(shí),它們獲得高能量并與周?chē)姆肿踊蛟优鲎?。結果,分子和原子中的電子被激發(fā),它們本身變成激發(fā)態(tài)或離子態(tài)。此時(shí),物質(zhì)存在的狀態(tài)是等離子體狀態(tài)。

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設備采用集成的未處理控制器進(jìn)行系統和功率的控制,有優(yōu)質(zhì)壓力保護開(kāi)關(guān),帶有手動(dòng)及自動(dòng)啟停雙重功能;可搭配旋轉、直噴槍頭,直徑處理寬度可調2mm-80mm,可遠程控制,實(shí)現24小時(shí)運行功能,維護簡(jiǎn)單、是一款 科技主打的經(jīng)濟型在線(xiàn)等離子清洗機。

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