4、工藝冷水冷卻的一般要求等離子清洗機的冷卻水溫度一般為20-50°，底漆附著(zhù)力等級要求應根據實(shí)際情況進(jìn)行調整。 5、工藝冷卻水的實(shí)時(shí)監控 由于工藝冷卻水是等離子清洗機的重要組成部分，因此通常應實(shí)時(shí)監控，以防止因零件損壞而導致產(chǎn)品處置。如果在使用過(guò)程中出現異常，請立即發(fā)出警報并停止。真空等離子清洗機是一種低溫處理產(chǎn)品，但為了保證等離子清洗機的壽命和正常運行，等離子清洗機的一些重要部位需要用冷卻水處理冷卻。

大氣等離子清洗機建議選用帶有流量控制器的專(zhuān)用氣源來(lái)為其提供穩定的工作氣體。此裝置Z大的優(yōu)點(diǎn)是攜帶方便、氣源干燥清潔、壓力和流量持續穩定。2 真空等離子清洗機的流量控制器選擇工藝氣體流量的穩定性，琉璃瓦刷什么底漆附著(zhù)力好會(huì )影響工業(yè)型真空等離子清洗機的處理效果，大多數工藝都對氣體流量控制要求非常嚴格，所以工業(yè)型真空等離子清洗機都是選用質(zhì)量流量控制器來(lái)實(shí)現對工藝氣體流量的控制。

2.在電子行業(yè)，底漆附著(zhù)力等級要求要求高清潔度和嚴格的免充電放電。大氣壓/寬幅等離子體技術(shù)在電子工業(yè)中的應用是針對電子元器件或電路板的加工制造，等離子體技術(shù)的引入是對這些工藝的革新。等離子體技術(shù)不僅能滿(mǎn)足高清潔度的要求，而且處理過(guò)程完全是無(wú)電位過(guò)程，即在等離子體處理過(guò)程中，電路板上不會(huì )有電位差而引起放電。在引線(xiàn)鍵合過(guò)程中，利用等離子體技術(shù)可以有效地對硅片、LCD顯示器或集成電路(IC)等敏感易損部件進(jìn)行預處理。

不活潑等離子體如氬氣(Ar)、氮氣(N2)、氟化氮(NF3)、四氟化碳(CF4)等，琉璃瓦刷什么底漆附著(zhù)力好氣態(tài)等離子體清洗過(guò)程中不同類(lèi)型氣體的反應機理不同；氣體的性質(zhì)不同，其用于清潔的污染物也須有不同的選擇。等離子清洗機就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，從而實(shí)現清潔、改性、光刻膠灰化等目的。

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圖1-5 (a)為單間隙單介質(zhì)阻擋放電電抗器的結構。其特點(diǎn)是介電體與高壓電極連接，接地電極與介電體之間有放電面積，結構簡(jiǎn)單，常用于制造臭氧等。圖1-5 (b)為雙間隙單介電體阻擋放電電抗器結構。其特點(diǎn)是等離子體清洗儀的上下電極分別與介質(zhì)形成兩個(gè)不同的反應區，一般用于產(chǎn)生兩種成分不同的等離子體。圖1-5 (c)為單間隙雙介質(zhì)阻擋放電電抗器結構。

為了探討等離子體作用下純乙烷轉化反應的可能機理，在相同等離子體條件下考察了純乙烯的轉化反應，其反應的主要產(chǎn)物是：C2H2和CH4及少量積碳。根據上述實(shí)驗事實(shí)，結合等離子體作用下甲烷轉化反應機理及等離子體特性，推測C2H6在等離子體條件下轉化反應的歷程如下。（1）等離子體場(chǎng)產(chǎn)生高能電子。自由電子在電場(chǎng)E作用下加速，生成高能電子e*： e + E → e*（3-26）（2）引發(fā)自由基反應。

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4.當腔體產(chǎn)生輝光時(shí)，根據實(shí)驗要求，打開(kāi)氧氬閥開(kāi)關(guān)（打開(kāi)狀態(tài)為：黃燈亮），手動(dòng)調節流量計旋鈕添加輔助氣體。5.達到處理時(shí)間后，恢復平衡閥按鈕，3秒左右恢復正常壓力。當沒(méi)有進(jìn)氣聲音時(shí)，腔門(mén)會(huì )自動(dòng)打開(kāi)。6.打開(kāi)腔門(mén)，取出處理對象，一個(gè)處理過(guò)程結束。在手動(dòng)狀態(tài)下，可以設置氧氣閥、氬氣閥、真空泵、射頻電源、平衡閥開(kāi)關(guān)選擇、數據工作。

底漆附著(zhù)力等級要求