根據市場(chǎng)對半導體材料的估算，附著(zhù)力特好的黑漆對于月產(chǎn)10萬(wàn)片晶圓的20nm DARM工廠(chǎng)來(lái)說(shuō)，產(chǎn)量下降1%，將導致每年3000萬(wàn)至5000萬(wàn)美國元的利潤減少，而邏輯芯片制造商的損失則更高。此外，產(chǎn)量下降還將使制造商本已很高的資本支出增加十分點(diǎn)。因此，工藝的優(yōu)化和控制是半導體材料生產(chǎn)過(guò)程中最重要的部分，制造商對半導體行業(yè)的要求也越來(lái)越高，尤其是清洗工藝。對于20nm以上的區域，清洗工序數量超過(guò)所有工藝工序的30%。

因此，附著(zhù)力特種功能助劑加工廠(chǎng)大氣射流等離子體清洗機的正常運行對每個(gè)工廠(chǎng)的UPH（生產(chǎn)能力）起著(zhù)決定性的作用?？諝鈬娚?a href="http://www.mahangnews.com/" target="_blank">等離子清洗機一旦出現故障，如果不能及時(shí)排除，將給企業(yè)帶來(lái)巨大的經(jīng)濟損失。與真空等離子體清洗機相比，常壓等離子體清洗機的機械結構相對簡(jiǎn)單。為了保證生產(chǎn)效率，操作人員必須具備一定的操作能力。

對于模塊工廠(chǎng)來(lái)說(shuō)，附著(zhù)力特好的黑漆雖然傳統制造工藝中使用的不同工藝可以完成相同的工作，但筆者認為最終的目標應該是通過(guò)制造工藝的持續改進(jìn)來(lái)實(shí)現整體產(chǎn)品良率的提高。。

一些非高分子無(wú)機氣體（Ar2、N2、H2、O2等）在高頻低壓下被激發(fā)，附著(zhù)力特種功能助劑加工廠(chǎng)產(chǎn)生含有離子、激發(fā)分子、自由基等的各種活性粒子。一般來(lái)說(shuō)，在等離子清洗中，活性氣體可以分為兩類(lèi)。一種是惰性氣體（Ar2、N2 等）的等離子體，另一種是反應氣體（O2、H2 等）的等離子體。。

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在這種情況下的等離子處理會(huì )產(chǎn)生以下效果：1.1灰化表面有機層－表面會(huì )受到化學(xué)轟擊（氧 下圖）－在真空和瞬時(shí)高溫狀態(tài)下，污染物部分蒸發(fā)－污染物在高能量離子的沖擊下被擊碎并被真空帶出－紫外輻射破壞污染物因為等離子處理每秒只能穿透幾個(gè)納米的厚度，所以污染層不能太厚。指紋也適用。1.2氧化物去除金屬氧化物會(huì )與處理氣體發(fā)生化學(xué)反應（下圖）這種處理要采用氫氣或者氫氣與氬氣的混合物。有時(shí)也采用兩步處理工藝。

直流(DC)放電由于其簡(jiǎn)單性至今仍被使用，尤其是對于工業(yè)大氣等離子體清洗裝置，可以發(fā)揮很大的功率。低頻放電的范圍一般為1-kHz，現在器件常用的頻率為40kHz。目前，常壓等離子體清潔器比高頻放電裝置更廣泛地應用于實(shí)驗設備和等離子體過(guò)程設備中，其頻率范圍為10～MHz。因為這屬于無(wú)線(xiàn)電波頻譜范圍，所以也被稱(chēng)為射頻放電，簡(jiǎn)稱(chēng)RF放電，常用頻率為13.56MHz。

等離子體清洗機就是利用這些活性成分的性質(zhì)對樣品表面進(jìn)行處理，從而達到清洗目的。等離子清洗機所生產(chǎn)的等離子“活性”部件包括:離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)核素(亞穩態(tài))、光子等。

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