等離子體常用的激勵頻率有三種:激勵頻率為40kHz的超聲波等離子體、激勵頻率為13.56MHz的射頻等離子體和激勵頻率為2.45GHz的微波等離子體。不同的等離子體產(chǎn)生不同的自偏置電壓。超聲等離子體的自偏置約為1000V，拉拔式附著(zhù)力試驗儀射頻等離子體的自偏置約為250V，微波等離子體的自偏置很低，僅為幾十伏特，三種等離子體的機理不同。
力試驗儀（506拉拔式附著(zhù)力試驗儀）.jpg)
第二個(gè)要考慮的問(wèn)題是選擇等離子清洗機的頻率。頻率選擇：常用頻率有40KHz、13.56MHz和20Mhz。 40kHz的自偏置電壓約為0V，拉拔式附著(zhù)力試驗儀13.56MHz的自偏置電壓約為250V，20MHz的自偏置電壓較低，這三種激勵頻率的機理不同。發(fā)生在 40 kHz 的反應是物理反應，發(fā)生在 13.56 MHz 的反應既是物理反應又是化學(xué)反應。 20MHz有物理反應，但更重要的反應是化學(xué)反應。
在等離子清洗機設計中，拉拔式附著(zhù)力試驗儀為了將回路中的高頻電流控制在合理范圍內，高頻發(fā)生器的輸出阻抗常設計為純電阻，電阻值一般為50Ω。高頻放電阻抗一般為容抗，但由于等離子處理裝置的反應室內放電條件的變化，高頻放電阻抗的值會(huì )發(fā)生變化，所以將匹配網(wǎng)絡(luò )和放電阻抗相加相加。后部模擬負載阻抗與高頻發(fā)生器的輸出阻抗相匹配，實(shí)現匹配。。
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506拉拔式附著(zhù)力試驗儀
氧自由基在化學(xué)反應過(guò)程中起著(zhù)積極的能量傳遞作用。受激狀態(tài)下的氧自由基能量高，容易與物體表層的分子結構融合，產(chǎn)生新的氧自由基。等離子體清洗機產(chǎn)生的新氧自由基也處于不穩定的高能狀態(tài)，可能會(huì )發(fā)生分解反應，在變成更小分子的同時(shí)生成新的氧自由基。這個(gè)反應過(guò)程可能會(huì )繼續下去，然后分解成H2O和CO2等簡(jiǎn)單的分子結構。
大氣壓等離子體清洗儀發(fā)射光譜分為線(xiàn)狀光譜、帶狀光譜和連續光譜，在等離子體發(fā)射光譜診斷中以線(xiàn)狀光譜和帶狀光譜為主。
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