經(jīng)等離子清洗后器件表面是干燥的,什么uv油墨附著(zhù)力強不需要再處理,可以提高整個(gè)工藝流水線(xiàn)的處理效率;可以使操作者遠離有害溶劑的傷害;等離子可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內部完成清洗,因此不需要過(guò)多考慮被清洗物件的形狀;還可以處理各種材質(zhì),尤其適合不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。這些優(yōu)點(diǎn),都使等離子體清洗得到廣泛關(guān)注。物理化學(xué)反應同時(shí)存在的清洗反應中物理反應與化學(xué)反應均起重要作用的 清洗。
(1)化學(xué)反應化學(xué)反應中常用的氣體有氫氣(H2)、氧氣(02)、甲烷(CF4)等,什么uv油墨附著(zhù)力強這些氣體在等離子體中反應成高活性自由基,方程是這些自由基會(huì )進(jìn)一步與材料表面發(fā)生反應。其反應機理主要是利用等離子體中的自由基與材料表面反應。壓力較高時(shí),有利于自由基的產(chǎn)生。因此,如果化學(xué)反應是主要反應,就需要控制較高的壓力來(lái)反應。
目前廣泛采用的工藝主要是等離子體處理器工藝,什么uv油墨附著(zhù)力強工藝簡(jiǎn)單、環(huán)保、清洗效果顯著(zhù),對于孔槽結構非常合理。等離子體處理器是指高度活化的等離子體在電場(chǎng)作用下定向運動(dòng),與孔壁鉆孔污物發(fā)生氣固兩相流化學(xué)反應,同時(shí)通過(guò)氣泵排出局部未反應的氣體產(chǎn)物和顆粒。
(1)激起頻率對等離子體的清洗類(lèi)型有一定影響例如:超聲波等離子體(激起頻率,什么UV單體對鐵附著(zhù)力好40kHz)的反應大多數是物理反應;微波等離子體(激起頻率,2.45GHz)的反應大多數是化學(xué)反應;射頻等離子體(激起頻率,13.56MHz)涉及物理化學(xué)雙重反應類(lèi)型。
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-等離子清洗機外接1臺真空型機械泵,運行時(shí)清潔腔中的plasma柔和沖擊被清潔物的表層,在短期內的清潔就可以使有機化學(xué)污染物質(zhì)被充分地清潔掉,與此同時(shí)污染物質(zhì)被真空泵吸走,其清潔水平做到原子級。 -等離子清洗機不僅具備超清潔主要用途外,在特殊條件下還可依據要求更改一些原材料表層的性能指標,plasma主要用途于原材料表層,使表層原子的化合物再次發(fā)生重新組合,建立新的表層特征。
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